[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法有效
申请号: | 201480061961.1 | 申请日: | 2014-11-17 |
公开(公告)号: | CN105745708B | 公开(公告)日: | 2019-03-19 |
发明(设计)人: | 酒井秀雄 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | G11B5/84 | 分类号: | G11B5/84;B24B37/00;B24B57/02;B24B37/08;C09K3/14 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁盘 玻璃 制造 方法 | ||
1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:
利用研磨垫按压玻璃基板的两侧的主表面,对玻璃基板与所述研磨垫之间供给含有硅溶胶作为研磨磨粒的研磨浆料,并且使所述主表面和所述研磨垫相对移动,由此对所述主表面进行研磨;以及
在对所述主表面进行研磨之前,将作为进行所述研磨的步骤中使用的所述研磨浆料的原料的碱性的原始研磨浆料调整为酸性状态,进而,对通过调整为所述酸性状态而生成的所述原始研磨浆料中的二氧化硅的析出物进行过滤处理并去除,由此制作减少了所述原始研磨浆料中的溶存二氧化硅的量的所述研磨浆料,
所述原始研磨浆料包含对利用阳离子交换树脂对硅酸钠水溶液进行离子交换而得到的活性硅酸进行加热而得到的硅溶胶。
2.根据权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其中,
调整为所述酸性状态后的原始研磨浆料的pH值为1~5。
3.根据权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其中,
所述研磨浆料中的溶存二氧化硅的浓度为0.02质量%以下。
4.根据权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其中,
所述研磨浆料在用于对所述玻璃基板的所述主表面的研磨后被回收而用于对其他玻璃基板的主表面的研磨。
5.根据权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其中,
所述硅溶胶的平均粒径为10nm~100nm。
6.根据权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其中,
所述过滤处理包括使用深层型过滤器进行的过滤、以及在使用所述深层型过滤器进行的过滤后进一步使用阳离子化的过滤器进行的过滤。
7.一种磁盘的制造方法,在利用权利要求1~6中的任意一项所述的制造方法制作的磁盘用玻璃基板的所述主表面上至少形成磁性层。
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