[发明专利]用于EUV投射光刻的照明光学装置以及照明系统

说明书

本发明涉及一种用于EUV投射光刻的照明光学装置，所述照明光学装置用于照亮照明场，下游侧的成像光学装置(6)的物场(3)布置在所述照明场中。在物场(3)中又能够布置能沿物体移动方向(y)移动的物体(5)。照明光学装置的镜面分面反射镜(14)具有多个并排布置的分面(13)，用于反射地叠加地导引朝向物场(3)的一束EUV照明光(9)中的部分光束(9i)。所述镜面分面反射镜(14)布置为，使得各个分面(13)在镜面分面反射镜(14)上的位置和照明光部分光束(9i)在镜面分面反射镜(14)的相应各个分面(13)上的射击区域预设出用于物场(3)的场点的照明方向。照明光部分光束(9i)在各个分面(13)上的射击区域的边缘轮廓预设出物场(3)的场形状。每个分面(13)具有连续的静态反射面(15)。由此实现这样的照明光学装置，通过所述照明光学装置能够以相比现有技术减少的制造耗费实现镜面反射器。

德国专利申请10 2013 218 131.0的内容通过参考引用包含在本发明中。

本发明涉及一种用于EUV(极紫外光)投射光刻的照明光学装置。本发明还涉及一种尤其具有这种照明光学装置的用于EUV投射光刻的照明系统。本发明还涉及一种具有这种照明光学装置的光学系统、用于使用在这种照明光学装置、这种光学系统或者这种照明系统中的光瞳分面反射镜、一种具有这种照明系统的投射曝光设备、一种用于微米结构化或纳米结构化的元件的制造方法以及一种通过这种方法制造的微米结构化或纳米结构化的元件。

用于EUV投射光刻的照明系统由US 5,361,292、DE 103 17 667 A1、US2010/0231882 A1和US 6 507 440 B1已知。分面反射镜这样布置，使得其部分光束重叠地进入物场中的各个分面在分面反射镜上的位置、亦即分面在分面反射镜上的地点位置预设了照明方向，其中，分面反射镜的被加载或射击的边缘轮廓同时预设了物场的场形状，例如由DE103 17 667 A1和US 2010/0231882 A1已知所谓的镜面反射器。这种分面反射镜在以下也称为镜面分面反射镜并且这种分面反射镜的单独分面称为镜面分面。在按照DE 103 17667 A1和US 2010/0231882 A1的镜面反射器中，每个单独的分面又由多个微镜组成。

本发明所要解决的技术问题在于，这样对本文开头所述类型的照明光学装置进行扩展设计，使得能够以相对现有技术减少的制造耗费实现镜面反射器。

所述技术问题按照本发明通过具有权利要求1所述特征的照明光学装置解决。

在由现有技术已知的用于镜面反射器的解决方案中，彼此重叠地成像在物场中的单个分面本身由微镜阵列的多个或大量单镜构成。在按照本发明的照明光学装置中，避免了将镜面分面划分为微镜。因此，单个的镜面分面具有较大的连续的静态反射面，这避免了制造耗费。镜面分面反射镜既不布置在EUV光源的图像平面内也不布置在待成像在物场中的平面内。镜面分面反射镜的镜面分面尤其整体式地设计。原则上甚至可以将整个镜面分面反射镜设计为整体，因为不需要将具有连续的静态反射面的镜面分面设计为可倾斜的。在分面上可以实现EUV照明光的入射角的较小的角带宽。也就是说，单独的分面可以用较小的入射角带宽射击，其中，射击不同分面的绝对入射角完全可以是明显不同的。单独分面上的入射角的角带宽可以例如小于5°，可以小于3°并且也可以更小。因此，镜面分面反射镜也可以用于非常小的照明光EUV波长，例如用于10nm范围内的波长和例如7nm范围内的更小波长，其具有较高的反射度。设计为镜面反射器的镜面分面反射镜是处于物场之前的照明光光路中的最后的光学部件。也就是说，在镜面分面反射镜与物场之间的照明光光路中不存在其它照明光学部件。EUV照明光的反射损耗可以由此减小。镜面分面可以并排地布置在镜面分面反射镜上的一个平面内。镜面分面可以布置在镜面分面反射镜的共同的分面载体上。在镜面分面反射镜之前可以在照明光的光路中布置另一个转换分面镜。在转换分面镜之前可以在照明光的光路中布置光束成型装置。这种光束成型装置可以作为扫描仪设计用于使照明光束进行扇形反射。备选地，光束成型装置可以设计为扇形放射照明光的静止的镜子。