[发明专利]石墨烯改性

权利要求书

1.一种用于接纳生物样品的透射电子显微术支持体，所述支持体包括至少一个支持部件，并且包括附接至所述至少一个支持部件的石墨烯，其特征在于所述石墨烯是部分氢化的石墨烯，并且其中所述石墨烯是1％至10％氢化的石墨烯，其中所述部分氢化的石墨烯包含石墨烯的至少第一区域和石墨烯的至少一个另外区域，其中所述第一区域被氢化至第一氢化值，并且所述至少一个另外区域被氢化至不同的氢化值。

2.根据权利要求1的支持体，其中所述石墨烯是3％至10％氢化的石墨烯。

3.根据权利要求1的支持体，其中所述石墨烯是5％氢化的石墨烯。

4.根据权利要求1的支持体，其中所述至少一个支持部件附接至支持膜，并且所述石墨烯附接至所述支持膜。

5.根据权利要求4的支持体，其中所述支持膜包含碳。

6.根据权利要求1的支持体，所述支持体还包括吸附至所述部分氢化的石墨烯的生物分子。

7.根据权利要求1至6任何一项中限定的部分氢化的石墨烯表面用于支持用于透射电子显微术的生物分子的用途。

8.一种用于制造部分氢化的石墨烯的方法，其中所述石墨烯是1％至10％氢化的石墨烯，所述方法包括对石墨烯片的表面施加氢离子或氢原子，其特征在于以在1至21eV范围内的能量施加所述氢离子或氢原子，其中对同一石墨烯片的不同区域施加变化量的氢化，以形成部分氢化的石墨烯，所述部分氢化的石墨烯包含石墨烯的至少第一区域和石墨烯的至少一个另外区域，其中所述第一区域被氢化至第一氢化值，并且所述至少一个另外区域被氢化至不同的氢化值。

9.根据权利要求8的方法，其中所述能量在1至14eV的范围内。

10.根据权利要求8的方法，其中以氢等离子体的形式施加所述氢离子或氢原子。

11.根据权利要求10的方法，其中所述石墨烯与所述氢等离子体接触11至80秒。

12.根据权利要求11的方法，其中所述石墨烯与所述氢等离子体接触18至22秒。

13.根据权利要求8的方法，其中所述石墨烯是安装在透射电子显微术支持体上的石墨烯。

14.通过根据权利要求8至13中任一项的方法获得的部分氢化的石墨烯。

15.一种传感器，所述传感器包括能够吸附生物分子的表面，其中所述表面包含部分氢化的石墨烯，其中所述石墨烯是1％至10％氢化的石墨烯，其中所述部分氢化的石墨烯包含石墨烯的至少第一区域和石墨烯的至少一个另外区域，其中所述第一区域被氢化至第一氢化值，并且所述至少一个另外区域被氢化至不同的氢化值。

16.根据权利要求15的传感器，其中所述石墨烯是3％至10％氢化的石墨烯。

17.根据权利要求15的传感器，其中所述石墨烯是5％氢化的石墨烯。

18.一种传感器，所述传感器包括根据权利要求1至6中任一项的支持体。

19.处于在1至21eV的范围内的能量的氢等离子体用于制备用于电子显微术中用作用于接纳生物样品的支持体的石墨烯的用途，其中所述石墨烯表面与所述等离子体接触10至40秒，其中对同一石墨烯片的不同区域施加变化量的氢化，以形成部分氢化的石墨烯，所述部分氢化的石墨烯包含石墨烯的至少第一区域和石墨烯的至少一个另外区域，其中所述第一区域被氢化至第一氢化值，并且所述至少一个另外区域被氢化至不同的氢化值。