[发明专利]以有机金属溶液为主的高分辨率图案化组合物

权利要求书

1.一种利用辐射图案化衬底的方法，所述方法包含：

沿所选图案辐照经涂布衬底以形成具有经辐照涂层的区和未经辐照涂层的区的经辐照结构，所述经辐照涂层具有5nm到200nm的平均厚度，其中所述经涂布衬底包含涂层，所述涂层包含金属氧-羟网状物，其中金属离子具有含有金属碳键和/或金属羧酸盐键的有机配体且不含过氧化物配体，其中所述金属离子包含锡离子、锑离子、铟离子或其组合；和

在45℃到250℃的温度下加热所述经辐照结构0.1分钟到30分钟以形成经退火的经辐照结构；和

使所述经退火的经辐照结构选择性显影以去除所述经辐照涂层或未经辐照涂层的实质性部分以形成图案化衬底，

其中所述金属氧-羟网状物同时包括M-O-H连接键和M-O-M连接键。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述经辐照结构具有可溶于碱水溶液中的经辐照涂层和可溶于有机溶剂中的未经辐照涂层，使得所述经辐照结构可交替经受正型成像或负型成像。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述显影是利用有机溶剂实施以去除所述未经辐照涂层。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述选择性显影是利用碱水溶液实施。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述辐照是利用电子束、紫外光、极紫外光、来自ArF激光的辐照、来自KrF激光的辐照或UV灯实施。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述图案化衬底包含具有不超过60nm的平均节距的特征。

7.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述未经辐照涂层具有0.1到4的所述有机配体与所述金属阳离子之间的摩尔比且具有不超过1微米的平均涂层厚度。

8.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述金属离子包含锡离子、锑离子、铟离子或其组合，并且其中所述有机配体形成金属碳键、金属-羧基键或两者，形成金属碳键的配体包含烷基配体、烯基配体、芳基配体或其组合，并且含有1到16个碳原子，并且形成金属-羧基键的配体是由烷基羧酸盐配体、烯基羧酸盐配体、芳基羧酸盐配体或其组合形成，每一配体具有1到16个碳原子。

9.根据权利要求1或2所述的方法，其进一步包含通过沉积液体前体溶液和蒸发所述溶剂以固化所述涂层来形成所述涂层。

10.一种经涂布衬底，其包含辐射敏感涂层，所述涂层具有5nm到200nm的平均厚度和沿所述涂层在任何点处与所述平均值相差不超过50％的厚度变化，所述涂层包含金属氧-羟网状物，其中金属阳离子具有含有金属碳键和/或金属羧酸盐键的有机配体且不含过氧化物配体，其中所述氧-羟网状物同时具有M-O-H连接键和M-O-M连接键。

11.根据权利要求10所述的经涂布衬底，其中所述有机配体与所述金属阳离子之间的摩尔比是0.1到4。

12.根据权利要求10所述的经涂布衬底，其中所述有机配体与所述金属阳离子之间的摩尔比是0.5到3。

13.根据权利要求10到12中任一权利要求所述的经涂布衬底，其具有5nm到50nm的平均涂层厚度。

14.根据权利要求10到12中任一权利要求所述的经涂布衬底，其中所述金属离子包含锡离子、锑离子、铟离子或其组合。

15.根据权利要求14所述的经涂布衬底，其中所述金属阳离子进一步包含另一金属元素和/或类金属元素的阳离子，所述另一阳离子不超过总金属+类金属含量的50摩尔％。