[发明专利]Fe‑Co系合金溅射靶材和软磁性薄膜层、以及使用它的垂直磁记录介质

说明书

关联申请的相互参照

本申请基于2013年8月15日申请的日本国专利申请2013-168787 号主张优先权，其全部公开内容通过参照被编入本说明书中。

技术领域

本发明涉及Fe-Co系合金溅射靶材和软磁性薄膜层、以及使用它的垂直磁记录介质。

背景技术

近年来，磁记录技术的进步显著，为了使驱动大容量化，磁记录介质的记录高密度化日益推进，能够由以往普及的面内磁记录介质实现更高的记录密度，垂直磁记录方式得到实用化。所谓垂直磁记录方式，是对于垂直磁记录介质的磁性膜中的介质面，以沿垂直方向取向的方式形成易磁化轴，是适于高记录密度的方法。而且，在垂直磁记录方式中，开发出具有提高了记录灵敏度的磁记录膜层和软磁性膜层的双层记录介质。该磁记录膜层一般来说使用的是CoCrPt-SiO₂系合金。

另一方面，软磁性膜层如日本特开2006-294090号公报(专利文献1) 所公开的，提出有Fe-Co系合金膜。在此专利文献1中，为了使膜构造为非晶或微晶，而在Fe和Co中添加20原子％以上的Si、Ni、Ta、Nb、 Zr、Ti、Cr和/或Mo。

另外，如日本特开2010-18884号公报(专利文献2)所公开的，提出有一种Fe-Co系合金系的溅射靶材，是(Fe-20～80Co)-4～25Nb 或Ta的组成的经过急冷凝固工序的溅射靶材，金属间化合物相的尺寸以最大内接圆的直径计为10μm以下。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2006-294090号公报

专利文献2：日本特开2010-18884号公报

为了形成上述这样的Fe-Co系合金膜，需要对应的Fe-Co系溅射靶材。但是，在实现上述这样的膜组成的溅射靶材，特别是专利文献2所公开的具有(Fe-20～80Co)-4～25Nb或Ta的组成的溅射靶材中，具有反映急冷凝固时所形成的枝晶组织的，最大内接圆的直径为10μm以下的尺寸的金属间化合物相，因此存在溅射时发生微粒这样的问题。

如果是通常情况，如专利文献2公开的，图1、3、5、6和7所示这样的含有Nb和Ta的金属间化合物，被断开成含有Fe和Co之中一种或两种的相。即，含有Nb和Ta的金属间化合物被以Fe和Co为主体的相包围、断开。该被断开的含有Nb和Ta的金属间化合物相，被认为是在靶材的溅射时发生的微粒的原因。

发明内容

为了消除上述这样的问题，发明人等进行了潜心开发，其结果发现，通过调整溅射靶材的显微组织，可抑制溅射中的微粒发生，从而达成发明。

根据本发明的一个方式，提供一种由如下Fe-Co系合金构成的溅射靶材，其作为M元素含有Nb、Ta、Mo、W中的一种或两种以上，余量由Fe和Co中的一种或两种以及不可避免的杂质构成，且满足原子比为 0≤X≤100，4≤Y≤28的下式(1)，其特征在于，该溅射靶材的显微组织具有以Fe和Co为主体的相、和包含Fe和Co中的一种或两种与M元素的金属间化合物相，使包含Fe和Co中的一种或两种与M元素的金属间化合物相网状地生长，包围、断开以Fe和Co为主体的相而使之孤立。

(Fe_X-Co_100-X)_100-YM_Y…(1)

根据本发明的另一方式，提供一种溅射靶材，由如下Fe-Co系合金构成，

其由从Nb、Ta、Mo和W中选择的至少一种M元素，以及作为Fe 和Co中的一种或两种和不可避免的杂质的余量构成，并且，

满足下式(1)：

(Fe_X-Co_100-X)_100-YM_Y…(1)

[式中，原子比为0≤X≤100和4≤Y≤28。]，

其中，所述溅射靶材的显微组织具有以Fe和Co为主体的相、和包含 Fe和Co中的一种或两种与M元素的金属间化合物相，

使由所述包含Fe和Co中的一种或两种与M元素的金属间化合物相网状地生长，包围、断开所述以Fe和Co为主体的相而使之孤立，

因所述金属间化合物相而孤立的所述以Fe和Co为主体的相的数量在所述溅射靶材中，在每10000μm²中存在300个以上。