[发明专利]蒸镀装置、蒸镀方法和有机电致发光元件的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及蒸镀装置、蒸镀方法和有机电致发光元件的制造方法。更详细而言，涉及适用于在大型基板上制造有机EL元件的蒸镀装置、蒸镀方法和有机电致发光元件的制造方法。

背景技术

近年来，平板显示器被应用于各种各样的商品和领域中，因此要求平板显示器进一步大型化、高画质化和低耗电化。

在这种状况下，具有利用了有机材料的电场发光(Electro Luminescence，以下也简称为EL)的有机EL元件的有机EL显示装置是全固体型的，作为在低电压驱动、高速响应性、自发光性等方面优异的平板显示器，受到高度关注。

有机EL显示装置例如在玻璃基板等的基板上具有薄膜晶体管(TFT)和与TFT连接的有机EL元件。

有机EL元件是能够通过低电压直流驱动进行高亮度发光的发光元件，具有第一电极、有机EL层和第二电极依次层叠而成的结构。其中，第一电极与TFT连接。有机EL层具有空穴注入层、空穴输送层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子输送层、电子注入层等有机层层叠而成的结构。

全彩色显示的有机EL显示装置通常具有红(R)、绿(G)和蓝(B)3种颜色的有机EL元件作为子像素，这些子像素在基板上排列成矩阵状，由3种颜色的子像素构成像素。而且，该显示装置利用TFT使这些有机EL元件有选择地以期望的亮度发光，由此进行图像显示。

在这样的有机EL显示装置的制造中，与各颜色的子像素对应地由有机发光材料形成发光层的图案。

作为发光层图案的形成方法，近年来提出了使用比基板小型的掩模，一边使基板相对于掩模和蒸镀源相对移动，一边对基板整个面进行蒸镀，由此在比掩模大型的基板上形成有机EL元件的方法(例如参照专利文献1～5)。以下，将这样一边使基板相对于掩模和蒸镀源相对移动(扫描)一边进行蒸镀的方法也称为扫描蒸镀法。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2010-270396号公报

专利文献2：国际公开第2011/034011号

专利文献3：国际公开第2011/145456号

专利文献4：国际公开第2012/029545号

专利文献5：国际公开第2012/121139号

发明内容

发明要解决的技术问题

在扫描蒸镀法中，为了防止在基板的扫描中基板与掩模接触而损伤，基板与掩模隔开间隔地配置。因此，在基板上形成的薄膜的图案的轮廓中会产生模糊。即，在膜厚固定的部分的两侧产生膜厚逐渐减少的部分。

此外，在扫描蒸镀法中，存在如下方法：在蒸镀源的上方配置作为板状部件的限制板，利用限制板控制从蒸镀源的喷嘴喷出的蒸镀流，使得对于掩模的各开口不会从期望的喷嘴以外的喷嘴飞来蒸镀颗粒。

但是，例如由于提高蒸镀速率、使喷嘴接近限制板等主要原因，当蒸镀流内的蒸镀颗粒的密度变高时，即使使用上述方法也不能完全控制蒸镀流，有可能从不期望的喷嘴向掩模的各开口飞来蒸镀颗粒。在此情况下，所形成的薄膜混入从不期望的喷嘴飞来的蒸镀颗粒。其结果是，有时在所形成的薄膜的图案中产生超出设想的模糊。即，有时形成与设计上设想的宽度相比宽度宽的图案。此外，有时在正常的图案之外形成称为重影(ghost)的异常的(不需要的)图案。这些现象在例如RGB全彩色显示的有机EL显示装置中，有可能引起混色发光等的异常发光。异常发光大幅损伤有机EL显示装置的显示品质。像这样，当蒸镀流内的蒸镀颗粒的密度变高时，限制板的功能有可能下降。

该原因可以认为是以下这样。在蒸镀颗粒的密度高的状态下，蒸镀颗粒彼此碰撞的概率增加，蒸镀颗粒的散射的程度增强。此外，限制板通常配置在蒸镀源附近，所以即使在蒸镀流中也是蒸镀颗粒的密度相对高的部分通过限制板。因此，如果蒸镀流内的蒸镀颗粒的密度达到高的状态，则在蒸镀流通过限制板时，发生蒸镀颗粒彼此的碰撞和蒸镀颗粒的散射的可能性变高。此外，没能通过限制板而附着在限制板、例如限制板的开口内的侧面部的蒸镀颗粒，也有可能由于限制板的温度上升而再蒸发。再蒸发后的蒸镀颗粒与从喷嘴刚喷出的蒸镀颗粒不同，没有被控制，因此有可能在设想外的方向上飞行。其结果是，本应由限制板控制的蒸镀流在通过限制板后扩展为超过所需的程度，其一部分到达应由相邻的蒸镀流成膜的区域，从而产生超出设想的模糊和/或重影。

例如，在专利文献1所记载的薄膜蒸镀装置中，在作为限制板起作用的遮断壁与作为掩模起作用的第二喷嘴之间什么都不存在，因此，当提高蒸镀速率时，可以认为与上述情况同样，产生超出设想的模糊和/或重影。