[发明专利]新型清洁制剂和方法

权利要求书

1.一种包含多个固体清洁颗粒和多个掺入颗粒的制剂，其中所述掺入颗粒包括包含至少一种基质材料和至少一种可释放性材料的核-壳型颗粒，其中所述基质材料包括至少一种部分或完全可溶于水的聚合材料作为所述掺入颗粒的壳，并且所述至少一种可释放性材料包括所述掺入颗粒的核材料，其包括至少一种用于基材处理的后清洁剂和/或其它处理添加剂，其中所述固体清洁颗粒为聚合型和/或非聚合型清洁颗粒，其中所述聚合型固体清洁颗粒具有在0.5-2.5g/cm³范围内的平均密度和在5-275mm³范围内的平均体积；所述的后清洁剂包括至少一种染料转移抑制剂；所述的染料转移抑制剂选自几丁聚糖或聚乙烯吡咯烷酮聚合物。

2.如权利要求1所述的制剂，其中所述聚合型清洁颗粒包括发泡型或非发泡型聚合材料。

3.如权利要求1或2所述的制剂，其中所述聚合型清洁颗粒包括线性的或交联的聚合物。

4.如权利要求1或2所述的制剂，其中所述聚合型清洁颗粒包括选自聚烯烃、聚酰胺、聚酯或聚氨酯的聚合物。

5.如权利要求4所述的制剂，其中所述聚合型颗粒包含尼龙，聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚对苯二甲酸丁二醇酯。

6.如权利要求1或2所述的制剂，其中所述聚合型清洁颗粒包含共聚物，所述共聚物包括带有离子电荷或者包含极性部分或不饱和有机基团的单体。

7.如权利要求1或2所述的制剂，其中所述非聚合型清洁颗粒包含玻璃，硅石，石材，木材，金属或陶瓷材料。

8.如权利要求7所述的制剂，其中所述金属选自锌、钛、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钨、铝、锡和铅，及其合金。

9.如权利要求7所述的制剂，其中所述陶瓷选自氧化铝、氧化锆、碳化钨、碳化硅和氮化硅。

10.如权利要求1或2所述的制剂，其中非聚合型固体清洁颗粒具有在3.5-12.0g/cm³范围内的平均密度和在5-275mm³范围内的平均体积。

11.如权利要求1或2所述的制剂，其中所述固体清洁颗粒的形状为椭球形，圆柱形或球形。

12.如权利要求1或2所述的制剂，其中所述掺入颗粒以占所述制剂总质量的0.1-50.0％w/w的比例进行添加。

13.如权利要求1或2所述的制剂，其中所述掺入颗粒的形状为圆柱形或球形。

14.如权利要求1或2所述的制剂，其中所述掺入颗粒具有在0.5-2.5g/cm³范围内的平均密度和在5-500mm³范围内的平均体积。

15.如权利要求1或2所述的制剂，其包含两种或多种类型的掺入颗粒。

16.如权利要求1或2所述的制剂，其中所述基质材料选自聚乙烯醇、聚乙烯醇和聚醋酸乙烯酯的共聚物、聚乙基乙烯醇、羟丙基甲基纤维素、纤维素、淀粉、羟丙基纤维素、羟乙基纤维素、羧甲基纤维素、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇和明胶或及其盐中的至少一种。

17.如权利要求1或2所述的制剂，其中所述至少一种可释放性材料包括至少一种清洁剂。

18.如权利要求1或2所述的制剂，其中所述至少一种可释放性材料包括至少一种后清洁剂。