[发明专利]气体供给管及热处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及气体供给管和使用该气体供给管向炉体内部的被处理物提供气氛气体并进行热处理的热处理装置。

背景技术

为了获得以陶瓷电容器为代表的陶瓷电子元器件而实施的烧成等被处理物的热处理中广泛应用热处理装置，该热处理装置由气体供给单元来提供与其目的相对应的气氛气体。

作为处理大量被处理物的热处理装置，可举出利用传送机构传送放置于装载构件的被处理物并连续进行处理的辊底炉、网带输送炉、及推杆式炉等连续炉。

上述连续炉中，较多的情况下，气氛气体在预热后被提供给被处理物。气体供给单元包含气体供给管，该气体供给管配置为露出到由加热器所加热的炉体的内部空间。气氛气体的预热在流过以炉体的内部空间的温度加热后的气体供给管的内部的期间进行。

作为一个示例，日本专利特开2012-225620号公报(专利文献1)中提出了如下方法：将配置于炉体内部的气体供给管设为由外侧管和内侧管构成的双重管，在气氛气体流过内侧管的期间和气氛气体流过双重管的间隙的期间，利用炉体的内部空间的温度来进行预热。

图12A及图12B示出了专利文献1所记载的气体供给管101。外侧管102的管壁具有贯通孔103。内侧管105的管壁具有贯通孔110。外侧管102和内侧管105之间的间隙107中插入有衬套108，该衬套108用于将间隙107与炉体外部的气氛相隔绝，并利用外侧管102的内部支承内侧管105。

外侧管102和内侧管105配置为，内侧管105的贯通孔110的轮廓垂直投影到外侧管102的内壁面时的投影图像不与外侧管102的贯通孔103重叠。

气体供给管101配置于未图示的炉体内部，与炉体外部所具备的未图示的气体供给源相连接。

对气体供给管101中气体的流动进行说明。从气体供给源提供给内侧管105的两端的气氛气体如箭头a所示那样在内侧管105的内部106流动，在其中途，如箭头b所示那样从内侧管105的贯通孔110释放到间隙107。释放到间隙107的气氛气体如箭头c所示那样沿着外侧管102的内壁面流动，最终如箭头d所示那样从外侧管102的贯通孔103释放到炉内。

于是，气氛气体在流过内侧管105的内部106的期间和流过间隙107的期间，通过炉内温度而被预热。

专利文献1中，上述气体供给管不需要多余的空间，能将均匀温度的气氛气体提供给被处理物。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2012－225620号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

专利文献1所记载的气体供给管中，流过内侧管105的内部106的气氛气体通过与内侧管105相接触而被加热。然而，流过内侧管105的内部106的中心轴线附近的气氛气体由于远离内侧管105的管壁而难以被加热。

此外，对于从位于炉体外部附近的内侧管105的贯通孔110a、110g喷出到间隙107的气氛气体，由于其在内侧管105中流动的距离较短，因此与内侧管105接触的距离较短。因此，上述气氛气体特别可能出现预热不充分的问题。

即，专利文献1的热处理装置中，不能认为气氛气体的预热充分。上述情况随着所提供的气氛气体量增多而变得显著。

若气氛气体在供给路径的中途未充分预热、而在维持较低的温度状态下被提供给大量的被处理物，则根据与气氛气体的接触的情况，被处理物的温度会产生偏差。被处理物的热处理中的温度偏差会导致热处理后的状态出现偏差。此外，被处理物的热处理后的状态的偏差会导致使用热处理后的被处理物制造得到的各种产品的性能偏差。

因而，要求充分预热气氛气体，并抑制热处理中的被处理物的温度偏差。

因此，本发明的目的在于，提供一种能充分预热所提供的气氛气体的气体供给管及能抑制热处理中的被处理物的温度偏差的热处理装置。

解决技术问题所采用的技术手段

本发明为了提供能充分对所提供的气氛气体进行预热的气体供给管，而力图实现对于气体供给管的内部结构的改良。

本发明所涉及的气体供给管包含外侧管和内侧管。外侧管的一端封闭，管壁具备沿长度方向排列的多个贯通孔。内侧管的一端与气体供给源相连，插入至所述外侧管的内部。