[发明专利]辐射检测器及制造它的方法有效

专利信息
申请号: 201480033641.5 申请日: 2014-06-06
公开(公告)号: CN105283779B 公开(公告)日: 2018-12-28
发明(设计)人: 本间克久 申请(专利权)人: 东芝电子管器件株式会社
主分类号: G01T1/20 分类号: G01T1/20
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 侯颖媖
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 辐射 检测器 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种辐射检测器,包括:

阵列基板,包含光电转换元件;

闪烁体层,形成在所述光电转换元件上且将辐射转换为荧光;以及

防湿层,该防湿层通过层叠平滑层和水蒸汽阻隔层而形成,所述平滑层是形成为覆盖所述闪烁体层的连续膜且至少包含有机树脂材料以及散布于其中的光散射体,所述水蒸汽阻隔层是通过直接成膜而形成在所述平滑层的表面上的连续膜且包含无机材料,

其特征在于,所述平滑层中,

在靠近所述闪烁体层的一侧具有高体积比例的所述光散射体,而在靠近所述水蒸汽阻隔层的一侧具有低体积比例的所述光散射体,且

所述平滑层的厚度不小于所述闪烁体层的凹凸。

2.如权利要求1所述的辐射检测器,其特征在于,

平滑层中的微粒形状的光散射体具有所述闪烁体的主荧光发射波长的1/10到10倍的平均粒子直径,并且包括陶瓷或金属。

3.如权利要求1所述的辐射检测器,其特征在于,

所述光散射体的体积比例在靠近所述闪烁体层的一侧满足以下等式,

光散射体的体积/有机树脂材料的体积≥1.0。

4.如权利要求1所述的辐射检测器,其特征在于,

所述光散射体的体积比例在远离所述闪烁体层的一侧满足以下等式,

光散射体的体积/有机树脂材料的体积<1.0。

5.如权利要求2所述的辐射检测器,其特征在于,

所述光散射体包括氧化钛。

6.一种用于制造辐射检测器的方法,包括:

在包含光电转换元件的阵列基板的表面上形成闪烁体层,所述闪烁体层将辐射转换为荧光;

形成平滑层以覆盖所述闪烁体层,通过溶剂溶解而使有机树脂材料变为涂敷液体并进一步将所述涂敷液体与微粒形状的光散射体进行混合,将包含所述光散射体的所述涂敷液体涂敷在所述闪烁体层上后干燥来形成所述平滑层;以及

形成水蒸气阻隔层,所述水蒸气阻隔层是通过直接成膜而形成在所述平滑层的表面上且包含无机材料的连续膜,

所述平滑层在靠近所述闪烁体层的一侧具有高体积比例的所述光散射体,而在靠近所述水蒸汽阻隔层的一侧具有低体积比例的所述光散射体,且

所述平滑层的厚度不小于所述闪烁体层的凹凸。

7.如权利要求6所述的用于制造辐射检测器的方法,其特征在于,

在形成所述平滑层中,通过在所述闪烁体层上涂抹涂敷液体后干燥来使所述平滑层的最外侧表面平滑,所述涂敷液体包括具有100℃或更高的沸点的所述溶剂、所述有机树脂材料以及所述光散射体。

8.如权利要求6所述的用于制造辐射检测器的方法,其特征在于,

在形成所述水蒸气阻隔层中,通过物理蒸汽膜形成法(PVD法)或化学蒸汽膜形成法(CVD法)来形成所述水蒸气阻隔层,并且所述水蒸气阻隔层包括从金属膜、氧化膜、氮化膜、氮氧化膜、以及金属膜、氧化膜、氮化膜、氮氧化膜的合成膜的组中选择的至少一个。

9.如权利要求6所述的用于制造辐射检测器的方法,其特征在于,

在形成所述水蒸气阻隔层之前,加热所述平滑层以促进排气,所述平滑层的温度被减小到确定的温度,此后所述水蒸气阻隔层被形成在所述平滑层上。

10.如权利要求6所述的用于制造辐射检测器的方法,进一步包括:

在形成所述水蒸气阻隔层之前,将接线与焊盘连接,所述焊盘连接设置在所述阵列基板上的外部电路。

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