[发明专利]用于处理半导体装置的方法

说明书

一种传感器阵列，其包括多个传感器。所述多个传感器的传感器具有在所述传感器阵列的表面处暴露的传感器垫。一种处理所述传感器阵列的方法，其包括使至少所述传感器垫暴露于包括磺酸和有机溶剂的洗涤溶液并且从所述传感器垫冲洗所述洗涤溶液。

相关申请的交叉引用

本申请要求2013年3月29日提交的美国临时申请第61/806,603号的权益，其以全文引用的方式引入本文中。

本申请要求2013年4月30日提交的美国临时申请第61/817,805号的权益，其以全文引用的方式引入本文中。

技术领域

总的来说，本发明涉及用于处理传感器阵列(感测器阵列，sensor array)的方法、通过该方法形成的传感器阵列和应用于该方法中的溶液。

背景技术

半导体衬底中形成的传感器阵列越来越多地在例如分析化学和分子生物学领域中使用。举例来说，当将分析物捕获到传感器阵列的传感器垫(sensor pad)上或附近时，该分析物或者与该分析物有关的反应的副产物能够被检测并且用于示出关于该分析物的信息。尤其是，已经发现所述传感器阵列在基因分析中的用途，例如基因测序或定量扩增。

在制造期间，各种半导体处理技术可改变传感器阵列表面和传感器阵列周围的井结构(well structure)表面的性质。所述处理也可在表面上留下残余物。改变的表面化学性质或残余物可阻止或限制捕捉传感器附近的分析物。如此，降低了所述传感器阵列的有效性，并且由所述传感器阵列得到的信号可能包括错误数据或得不到数据。

发明内容

一方面，可将传感器装置用洗涤溶液处理，所述传感器装置包括传感器阵列以及任选的对应于该传感器阵列的井阵列或者附着到该传感器阵列之上的盖子(cap)。该洗涤溶液可包括有机溶剂和酸(例如磺酸，如烷基苯磺酸)。可将所述传感器装置进一步用碱性溶液(例如NaOH溶液)处理，或可用低沸点有机溶剂或水冲洗。任选地，可干燥所述传感器装置。

附图示出

通过参照附图，可以更好地理解本发明，并且使其数量众多特征和优点对于所属领域的技术人员而言是明显的。

图1包括示例性测量系统的图示。

图2包括示例性测量组件的图示。

图3包括示例性测量组件阵列的图示。

图4包括示例性井配置的图示。

图5包括示例性井和传感器配置的图示。

图6和图7包括示例性传感器装置的图示。

图8、图9和图10包括示出示例性方法的流程图。

图11包括用于制备测序装置的示例性方法的图示。

在不同图中使用相同参考符号表示相似或相同的物件。

具体实施方式