[发明专利]具有带电材料输送腔室的离子迁移谱装置在审

专利信息
申请号: 201480028334.8 申请日: 2014-03-18
公开(公告)号: CN105209898A 公开(公告)日: 2015-12-30
发明(设计)人: B·阿塔曼丘卡;V·邦达连科;V·瑟奇耶夫;H·扎列斯基;D·莱文;M·品尼尔斯基;I·库贝利克;Q·卞;S·费尔德贝格;D·J·格林;B·博索;A·J·帕特尔 申请(专利权)人: 蒙特利尔史密斯安检仪公司
主分类号: G01N27/62 分类号: G01N27/62;H01J49/02;H01J49/04
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 李翔;李雪
地址: 加拿大*** 国省代码: 加拿大;CA
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 带电 材料 输送 离子 迁移 装置
【权利要求书】:

1.一种带电材料的输送腔室,该输送腔室包括:

腔室,该腔室由大体上绝缘材料和半导体材料中的至少一者制成,所述腔室具有内表面和外表面;以及

图案化电阻轨迹,该图案化电阻轨迹设置在所述腔室的内表面和外表面中的至少一者上,所述图案化电阻轨迹设置为与电能供应源连接。

2.根据权利要求1所述的带电材料的输送腔室,其中,所述图案化电阻轨迹设置为与所述电能供应源连接,以在通电时在所述腔室内形成电场。

3.根据权利要求1所述的带电材料的输送腔室,其中,所述图案化电阻轨迹设置为与所述电能供应源连接,以在通电时加热所述腔室。

4.根据权利要求1-3中任意一项所述的带电材料的输送腔室,其中,所述图案化电阻轨迹包括设置在所述腔室的内表面和外表面中的至少一者上的线圈,所述线圈定向为至少大体上垂直于所述腔室的纵向轴线。

5.根据权利要求4所述的带电材料的输送腔室,其中,所述线圈包括至少270°的单匝。

6.根据权利要求1所述的带电材料的输送腔室,其中,所述图案化电阻轨迹设置为离子调节部。

7.根据权利要求1-6中任意一项所述的带电材料的输送腔室,其中,所述输送腔室进一步包括连接部,该连接部连接于所述图案化电阻轨迹并且设置为将所述图案化电阻轨迹连接至所述电能供应源。

8.根据权利要求1-7中任意一项所述的带电材料的输送腔室,其中,所述输送腔室进一步包括纵向电阻轨迹,该纵向电阻轨迹设置为将所述图案化电阻轨迹至少连接至第二图案化电阻轨迹和所述连接部。

9.一种制造带电材料的输送腔室的方法,该方法包括:

将图案化电阻轨迹设置在腔室的内表面和外表面中的至少一者上,所述腔室由大致绝缘材料和半导体材料中的至少一者制成,所述图案化电阻轨迹设置为连接至电能供应源;以及

将所述图案化电阻轨迹连接至所述腔室的连接部,所述连接部设置为将所述图案化电阻轨迹连接至所述电能供应源。

10.根据权利要求9所述的方法,其中,将所述图案化电阻轨迹设置为连接至所述电能供应源,以在通电时在所述腔室内形成电场。

11.根据权利要求9所述的方法,其中,将所述图案化电阻轨迹设置为连接至所述电能供应源,以在通电时加热所述腔室。

12.根据权利要求9-11中任意一项所述的方法,其中,所述图案化电阻轨迹包括设置在所述腔室的内表面和外表面中的至少一者上的线圈,所述线圈定向为至少大体上垂直于所述腔室的纵向轴线。

13.根据权利要求12所述的方法,其中,所述线圈包括至少270°的单匝。

14.根据权利要求9所述的方法,其中,所述图案化电阻轨迹设置为离子调节部。

15.根据权利要求9-14中任意一项所述的方法,其中,将所述图案化电阻轨迹连接至所述腔室的连接部包括使用纵向电阻轨迹将所述图案化电阻轨迹至少连接至第二图案化电阻轨迹和所述连接部。

16.一种离子检测组件,该离子检测组件包括:

带电材料的输送腔室,该输送腔室包括由大致绝缘材料和半导体材料中的至少一者制成的腔室,所述腔室具有内表面和外表面,所述腔室的所述内表面和外表面中的至少一者上设置有图案化电阻轨迹,该图案化电阻轨迹设置为连接至电能供应源;

入口组件,该入口组件与所述带电材料的输送腔室流体连通,所述入口组件包括用于接收样品的入口、用于使所述样品电离的反应区以及用于控制电离的样品进入所述带电材料的输送腔室的门;以及

收集组件,该收集组件与所述带电材料的输送腔室流体连通,所述收集组件包括用于在所述电离的样品穿过所述带电材料的输送腔室后收集所述电离的样品的收集盘。

17.根据权利要求16所述的离子检测组件,其中,所述图案化电阻轨迹设置为连接至电能供应源,以在通电时在所述腔室内形成电场。

18.根据权利要求16所述的离子检测组件,其中,所述图案化电阻轨迹设置为连接至所述电能供应源,以在通电时加热所述腔室。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于蒙特利尔史密斯安检仪公司,未经蒙特利尔史密斯安检仪公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480028334.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top