[发明专利]低静电放电熔合拉制玻璃的表面处理

权利要求书

1.一种改善玻璃板的静电放电性质的方法，包括：

用处理液处理所述玻璃板的至少一侧，该处理液增加所述玻璃板的所述至少一侧的平均表面粗糙度；以及

除去所述处理液，其中

处理之后，所述玻璃板经过处理的所述至少一侧的平均表面粗糙度约为0.3-100nm；以及

处理前的所述玻璃板与处理后的所述玻璃板之间的电压下降百分数约为1.5％-40％。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述玻璃板包含碱金属铝硅酸盐、碱金属硼铝硅酸盐、碱土金属铝硅酸盐、碱土金属硼铝硅酸盐或其组合。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述玻璃板的长度大于约100mm。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述玻璃板的厚度小于约1.0mm。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述玻璃板经过处理的所述至少一侧的表面粗糙度约为0.4-10nm。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述玻璃板经过处理的所述至少一侧的表面粗糙度约为0.5-1.3nm。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，经接触分离后测定，处理前的所述玻璃板与处理后的所述玻璃板之间的电压下降百分数约为2.0％-35％。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，经接触分离后测定，处理前的所述玻璃板与处理后的所述玻璃板之间的电压下降百分数约为3.0％-30％。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述处理步骤的持续时间约为0.5-90分钟。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述处理步骤期间的温度约为20-100℃。

11.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述处理液包含选自下组的至少一种：HCl，H₂SO₄，HCl与HF的混合物，二氟化铵，氟化铵，以及NaF与H₃PO₄的混合物。

12.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述处理液包含摩尔浓度为0.15-0.35摩尔/升的HCl。

13.如权利要求12所述的方法，其特征在于，所述处理液包含摩尔浓度为1x10^-3摩尔/升至约1摩尔/升的HF。

14.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述处理液包含硫酸(H₂SO₄)和水，其形式为H₂SO₄:水为1:4的混合物。

15.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述处理液包含硫酸(H₂SO₄)和水，其形式为H₂SO₄:水为1:3的混合物。

16.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述处理液包含硫酸(H₂SO₄)和水，其形式为H₂SO₄:水为1:2的混合物。

17.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述处理液包含0.2摩尔/升氟化钠(NaF)和1摩尔/升H₃PO₄。

18.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述玻璃板在所述处理步骤之前的平均表面粗糙度约为0.1-0.3nm。

19.如权利要求1所述的方法，所述方法还包括在处理所述玻璃板之前减薄所述玻璃板。

20.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述玻璃板的第一侧用所述处理液处理，并在处理后具有约0.3-100nm的平均表面粗糙度，以及

所述玻璃板的第二侧不用所述处理液处理，并具有约0.1-0.3nm的平均表面粗糙度。