[发明专利]多孔聚合物膜的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及使用离子束照射的多孔聚合物膜的制造方法。

背景技术

已知通过离子束照射和其后的化学蚀刻制造多孔聚合物膜的方法(例如，专利文献1～3)。对聚合物膜照射离子束时，在该膜中的离子通过的部分产生由离子与构成聚合物膜的聚合物链的碰撞导致的损伤。产生损伤的聚合物链比其它部分更容易被化学蚀刻。因此，通过对照射离子束后的聚合物膜进行化学蚀刻，可以形成形成有与离子碰撞的轨迹对应的孔的多孔聚合物膜。

在专利文献3中记载了对聚合物膜照射通过加速器加速后的离子的例子。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特公昭52-3987号公报

专利文献2：日本特开昭54-11971号公报

专利文献3：日本特开昭59-117546号公报

发明内容

发明所要解决的问题

专利文献1～3中公开的方法没有充分考虑多孔聚合物膜的工业生产。本公开的目的之一在于提供适合于工业生产的多孔聚合物膜的制造方法。

用于解决问题的手段

本公开的制造方法包括：工序(I)，对聚合物膜照射由在回旋加速器中加速后的离子构成的离子束，从而形成经上述离子束中的离子碰撞后的聚合物膜；和工序(II)，对上述形成的聚合物膜进行化学蚀刻，从而在上述聚合物膜中形成与上述离子碰撞的轨迹对应的开口和/或通孔。在上述工序(I)中，在上述离子束的路径上的上述聚合物膜的上游和/或下游检测该离子束的束电流值，并且基于上述检测出的束电流值控制上述离子束对上述聚合物膜的照射条件，使得上述离子对上述聚合物膜的照射密度为设定值。

发明效果

本公开的制造方法适合于多孔聚合物膜的工业生产。

附图说明

图1是用于说明本公开的制造方法中的工序(I)的示意图。

图2是用于说明本公开的制造方法中的工序(II)的示意图。

图3是表示本公开的制造方法的一个实施方式中的电流俘获线的配置的一例的示意图。

图4是表示本公开的制造方法的一个实施方式的示意图。

图5是示意性地表示在图4所示的实施方式中可使用的被照射辊的结构的一例的剖视图。

图6A是用于说明关于由在回旋加速器中加速后的离子构成的离子束(原离子束)的一例与其行进方向垂直的截面的示意图。

图6B是表示图6A所示的截面中的x轴方向的强度分布(离子束的强度分布)的示意图。

图7A是用于说明为了通过非线性聚焦法将原离子束的尾部折叠而对该离子束施加的非线性磁场的一例的图。

图7B是表示通过非线性聚焦法将原离子束的尾部折叠的一例的示意图。

图8是表示经过尾部折叠后的离子束的一例的截面的示意图。

具体实施方式

本公开的第1方式提供一种多孔聚合物膜的制造方法，其包括：工序(I)，对聚合物膜照射由在回旋加速器中加速后的离子构成的离子束，从而形成经上述离子束中的离子碰撞后的聚合物膜；和工序(II)，对上述形成的聚合物膜进行化学蚀刻，从而在上述聚合物膜中形成与上述离子碰撞的轨迹对应的开口和/或通孔，在上述工序(I)中，在上述离子束的路径上的上述聚合物膜的上游和/或下游检测该离子束的束电流值，并且基于上述检测出的束电流值控制上述离子束对上述聚合物膜的照射条件，使得上述离子对上述聚合物膜的照射密度为设定值。

本公开的第2方式在第1方式的基础上提供一种多孔聚合物膜的制造方法，其中，控制上述离子束的强度作为上述照射条件。

本公开的第3方式在第2方式的基础上提供一种多孔聚合物膜的制造方法，其中，通过配置在上述离子的离子源与上述回旋加速器之间的上述离子束的路径上的斩束器和/或聚束器进行上述离子束的强度的控制。

本公开的第4方式在第1方式～第3方式中任一方式的基础上提供一种多孔聚合物膜的制造方法，其中，控制上述离子束对上述聚合物膜的照射时间作为上述照射条件。

本公开的第5方式在第4方式的基础上提供一种多孔聚合物膜的制造方法，其中，在上述工序(I)中，从卷绕有带状的上述聚合物膜的送料辊送出该膜，通过以上述送出的聚合物膜横穿上述离子束的方式运送上述送出的聚合物膜，由此在上述聚合物膜横穿上述离子束时对该膜照射该离子束，通过控制横穿上述离子束时的上述聚合物膜的运送速度来进行上述照射时间的控制。