[发明专利]多孔聚合物膜的制造方法

权利要求书

1.一种多孔聚合物膜的制造方法，其包括：

工序(I)，对聚合物膜照射由在回旋加速器中加速后的离子构成的离子束，从而形成经所述离子束中的离子碰撞后的聚合物膜；和

工序(II)，对所述形成的聚合物膜进行化学蚀刻，从而在所述聚合物膜中形成与所述离子碰撞的轨迹对应的开口和/或通孔，

在所述工序(I)中，

在所述离子束的路径上的所述聚合物膜的上游和/或下游检测该离子束的束电流值，并且

基于所述检测出的束电流值控制所述离子束对所述聚合物膜的照射条件，使得所述离子对所述聚合物膜的照射密度为设定值。

2.如权利要求1所述的多孔聚合物膜的制造方法，其中，控制所述离子束的强度作为所述照射条件。

3.如权利要求2所述的多孔聚合物膜的制造方法，其中，通过配置在所述离子的离子源与所述回旋加速器之间的所述离子束的路径上的斩束器和/或聚束器进行所述离子束的强度的控制。

4.如权利要求1所述的多孔聚合物膜的制造方法，其中，控制所述离子束对所述聚合物膜的照射时间作为所述照射条件。

5.如权利要求4所述的多孔聚合物膜的制造方法，其中，

在所述工序(I)中，从卷绕有带状的所述聚合物膜的送料辊送出该膜，以横穿所述离子束的方式运送所述送出的聚合物膜，由此在所述聚合物膜横穿所述离子束时对该膜照射该离子束，

通过控制横穿所述离子束时的所述聚合物膜的运送速度来进行所述照射时间的控制。

6.如权利要求1所述的多孔聚合物膜的制造方法，其中，通过配置在所述离子束的路径上的所述聚合物膜的上游和/或下游的电流俘获线进行所述束电流值的检测。

7.如权利要求1所述的多孔聚合物膜的制造方法，其中，通过配置在所述离子束的路径上的所述聚合物膜的下游的法拉第杯进行所述束电流值的检测。

8.如权利要求1所述的多孔聚合物膜的制造方法，其中，

在所述工序(I)中，从卷绕有带状的所述聚合物膜的送料辊送出该膜，将所述送出的聚合物膜运送至配置在所述离子束的路径上的被照射辊，由此在所述聚合物膜通过所述被照射辊时对该膜照射所述离子束，

在所述被照射辊的表面形成有导电层，

将所述导电层作为捕集电极并通过所述被照射辊进行所述束电流值的检测。

9.如权利要求1所述的多孔聚合物膜的制造方法，其中，

在所述工序(I)中对所述聚合物膜照射的离子束为将原离子束的尾部通过非线性聚焦法向离子束中心方向折叠而得到的离子束，

所述原离子束由在回旋加速器中加速后的离子构成，并且关于与离子束的行进方向垂直的截面的强度分布，所述原离子束具有以离子束中心为最大强度且随着远离该中心束流强度连续降低的分布图。