[发明专利]功能性被膜、浸液部件、浸液部件的制造方法、曝光装置、以及设备制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及功能性被膜、浸液部件、浸液部件的制造方法、曝光装置、以及设备制造方法。更详细而言，涉及具有兼具亲水性和防污染性的表面性质的功能性被膜、使用该功能性被膜的浸液部件、浸液部件的制造方法、曝光装置、以及设备制造方法。

本申请基于2013年1月22日申请的美国专利临时申请61/755098号主张优先权，并将其内容援用于此。

背景技术

光刻工序所使用的曝光装置中，例如已知有下述专利文献公开的介由液体以曝光用光将基板曝光的浸液曝光装置。

专利文献1:美国专利申请公开第2008/266533号

专利文献2:美国专利申请公开第2005/018155号

发明内容

浸液曝光装置中，在基板等物体上形成浸液区域的状态下，有时作为基板的晶片表面的抗蚀剂、顶涂层所含的成分溶出至液体(纯水)中。因此，溶出至液体(纯水)中的抗蚀剂、顶涂层成分有可能再析出到形成浸液区域的部件表面，该析出物因水流(液流)而剥离并附着于基板。若在析出物附着于基板的状态下将该基板曝光，则有可能会发生例如形成于基板的图案出现缺陷等曝光不良，从而产生不良设备。此外，还有时会因某些原因使混入液体的异物附着于形成浸液区域的部件，而在该附着的异物再次混入液体的状态下将基板曝光。

因此，需要定期清洗形成浸液区域的部件以除去表面的析出物，但若清洗的频率、时间增加，则可能导致生产率降低。

另外，为了保持浸液水，要求形成浸液区域的部件的表面具有亲水性。此外，要求部件表面尽可能不易污染。即，对搭载于曝光装置的形成浸液区域的部件要求兼具亲水性和防污染性的表面性质。以往不存在具有这种表面性质的功能性被膜。

本发明的方式的目的在于提供具有兼具亲水性和防污染性的表面性质的功能性被膜。另外，本发明的方式的目的在于提供能抑制曝光不良的产生和生产率降低的浸液部件、浸液部件的制造方法、以及曝光装置。此外，本发明的方式的目的在于提供能抑制不良设备的产生和生产率降低的设备制造方法。

本发明的一个方式的功能性被膜是被施加于以浸渍于液体的状态使用的基材的表面的功能性被膜，包含掺杂有Ti的四面体非晶碳的膜(ta-C:Ti膜)。

例如，上述方式中，上述膜的组成中，由下述的式(1)定义的、Ti相对于C的原子比率(Ti/C原子比率)α为0.03～0.09，

α＝(Ti/C原子比率)

＝(Ti原子数)/{(sp³-C原子数)+(sp²-C原子数)}…(1)

其中，(Ti原子数):占膜的Ti原子数

(sp³-C原子数):占膜的sp³杂化轨道的碳原子数

(sp²-C原子数):占膜的sp²杂化轨道的碳原子数。

上述方式中，上述膜的表面的纯水的静态接触角β为30度以下。

上述方式中，上述膜的表面相比于纯Ti的表面的污染指数γ为80％以下。

上述方式中，上述基材由Ti构成。

例如，上述方式中，上述基材由Ti构成，由下述的式(2)定义的、sp³杂化轨道的碳原子(sp³-C原子)占上述膜的比例δ为59％以下，

δ＝(sp³-C原子的比例)

＝(sp³-C原子数)/{(sp³-C原子数)+(sp²-C原子数)+(Ti原子数)}…(2)

其中，(Ti原子数):占膜的Ti原子数

(sp³-C原子数):占膜的sp³杂化轨道的碳原子数

(sp²-C原子数):占膜的sp²杂化轨道的碳原子数。

本发明的一个方式的浸液部件以用液体充满照射于物体的曝光用光的光路的方式在与上述物体之间保持上述液体而形成浸液空间，其由被上述方式记载的上述功能性被膜覆盖的上述基材构成，且上述基材具有筛网形状。

本发明的一个方式的曝光装置介由液体使用曝光用光将基板曝光，具备上述方式记载的上述浸液部件。

上述方式中，曝光装置在回收液体的液体回收机构的一部分具备上述浸液部件。