[发明专利]功能性被膜、浸液部件、浸液部件的制造方法、曝光装置、以及设备制造方法有效

专利信息
申请号: 201480004940.6 申请日: 2014-01-22
公开(公告)号: CN104919078B 公开(公告)日: 2017-05-24
发明(设计)人: 岸梅工;泷优介 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 苗堃,金世煜
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 功能 性被膜 浸液 部件 制造 方法 曝光 装置 以及 设备
【权利要求书】:

1.一种功能性被膜,是被施加于基材的表面的功能性被膜,所述基材以浸渍于液体的状态使用,

包含掺杂有Ti的四面体非晶碳的膜、即ta-C:Ti膜,

所述膜的组成中,由下述的式(1)定义的、Ti相对于C的原子比率α即Ti/C原子比率为0.03~0.09,

α=(Ti/C原子比率)

=(Ti原子数)/{(sp3-C原子数)+(sp2-C原子数)}…(1)

其中,(Ti原子数):占所述膜的Ti原子数,

(sp3-C原子数):占所述膜的sp3杂化轨道的碳原子数,

(sp2-C原子数):占所述膜的sp2杂化轨道的碳原子数。

2.根据权利要求1所述的功能性被膜,其中,所述膜的表面的纯水的静态接触角β为30度以下。

3.根据权利要求1或2所述的功能性被膜,其中,所述膜的表面的相比于纯Ti的表面的污染指数γ为80%以下。

4.根据权利要求1或2所述的功能性被膜,其中,所述基材由Ti构成。

5.根据权利要求4所述的功能性被膜,其中,所述基材由Ti构成,

由下述的式(2)定义的、占所述膜的sp3杂化轨道的碳原子即sp3-C原子的比例δ为59%以下,

δ=(sp3-C原子的比例)

=(sp3-C原子数)/{(sp3-C原子数)+(sp2-C原子数)+(Ti原子数)}…(2)

其中,(Ti原子数):占所述膜的Ti原子数,

(sp3-C原子数):占所述膜的sp3杂化轨道的碳原子数,

(sp2-C原子数):占所述膜的sp2杂化轨道的碳原子数。

6.一种浸液部件,是以用液体充满照射于物体的曝光用光的光路的方式在与所述物体之间保持所述液体而形成浸液空间的浸液部件,

所述浸液部件由被权利要求1~5中任一项所述的功能性被膜覆盖的所述基材构成,且所述基材具有筛网形状。

7.一种曝光装置,是介由液体使用曝光用光将基板曝光的曝光装置,具备权利要求6所述的浸液部件。

8.根据权利要求7所述的曝光装置,其中,在回收液体的液体回收机构的一部分具备所述浸液部件。

9.一种设备制造方法,包括如下工序:

使用权利要求7或8所述的曝光装置将基板曝光的工序,和

将曝光了的所述基板显影的工序。

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