[发明专利]测量刻度

权利要求书

1.一种测量刻度装置，用于确定两个物体的相对位置，所述测量刻度装置包括至少一个刻度标记，其中所述刻度标记或每一刻度标记包括表示刻度装置信息的至少一个周期性纳米结构。

2.根据权利要求1所述的测量刻度装置，其中所述刻度标记或每一周期性纳米结构包括激光诱导周期性表面结构(LIPSS)。

3.根据权利要求1或2所述的测量刻度装置，其中所述刻度标记或每一周期性纳米结构包括多个基本上平行的线。

4.根据权利要求1所述的测量刻度装置，其中由所述至少一个周期性纳米结构表示的所述信息包括关于所述刻度的位置信息或非位置相关数据。

5.根据权利要求1所述的测量刻度装置，其中所述刻度标记或每一周期性纳米结构表示使用周期性纳米结构的取向、深度和周期中的至少一个的信息。

6.根据权利要求1所述的测量刻度装置，其中由所述至少一个周期性纳米结构表示的所述刻度装置信息包括(a)绝对位置信息和(b)相对位置信息中的至少一个。

7.根据权利要求1所述的测量刻度装置，其中由所述至少一个周期性纳米结构表示的所述刻度装置信息包括以下各项中的至少一个：(a)界限的指示；(b)参考位置的指示；以及(c)方向信息。

8.根据权利要求1所述的测量刻度装置，其中由所述至少一个周期性纳米结构表示的所述刻度装置信息包括以下各项中的至少一个：(a)误差信息；(b)刻度或刻度制造商识别符；以及(c)表示在刻度标记的相关联系列中的误差的误差映射。

9.根据权利要求1所述的测量刻度装置，其中由所述至少一个周期性纳米结构表示的所述刻度装置信息包括认证或安全数据。

10.根据权利要求1所述的测量刻度装置，其中所述至少一个刻度标记包括形成第一系列刻度标记的多个刻度标记，并且所述测量刻度装置进一步包括第二系列刻度标记。

11.根据权利要求10所述的测量刻度装置，其中所述第一系列刻度标记和所述第二系列刻度标记共享共用测量轴。

12.根据权利要求10或11所述的测量刻度装置，其中所述第一系列刻度标记包括绝对刻度标记、增量刻度标记和参考标记中的一个，并且所述第二系列刻度标记包括绝对刻度标记、增量刻度标记和参考标记中的另一个。

13.根据权利要求10所述的测量刻度装置，其中所述第一系列刻度标记中的至少一个与所述第二系列刻度标记中的至少一个重叠。

14.根据权利要求10所述的测量刻度装置，其中所述第一系列刻度标记与所述第二系列刻度标记交错。

15.根据权利要求10所述的测量刻度装置，其中由所述第一系列刻度标记表示的刻度装置信息是关于由所述第二系列刻度标记表示的刻度装置信息独立地可读的。

16.根据权利要求1所述的测量刻度装置，其中所述至少一个刻度标记包括多个刻度标记。

17.根据权利要求16所述的测量刻度装置，其中所述刻度标记是基本上相同的。

18.根据权利要求16或17所述的测量刻度装置，其中所述刻度标记沿测量轴是基本上等间距的。

19.根据权利要求1所述的测量刻度装置，其中所述刻度标记或每一周期性纳米结构表示使用所述周期性纳米结构的偏振特性的所述刻度装置信息。

20.根据权利要求19所述的测量刻度装置，其中每个周期性纳米结构的偏振方向表示所述刻度装置信息。

21.根据权利要求1所述的测量刻度装置，其中对于所述周期性纳米结构或所述周期性纳米结构中的每一个，表示所述刻度装置信息的所述周期性纳米结构的特性具有选定数目的离散值中的一个。

22.根据权利要求1所述的测量刻度装置，其中对于所述周期性纳米结构或所述周期性纳米结构中的每一个，表示所述刻度装置信息的所述周期性纳米结构的特性随着沿所述刻度的测量轴的位移而变化。

23.根据权利要求1所述的测量刻度装置，其中所述至少一个刻度标记形成用于编码器的测量刻度。