[发明专利]透明阻气膜的制造方法、透明阻气膜的制造装置以及有机电致发光器件无效

专利信息
申请号: 201480001509.6 申请日: 2014-01-22
公开(公告)号: CN104364415A 公开(公告)日: 2015-02-18
发明(设计)人: 山田泰美 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;B32B15/08;C23C14/56;C23C16/54;H01L51/50;H05B33/02;H05B33/10
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 透明 阻气膜 制造 方法 装置 以及 有机 电致发光 器件
【权利要求书】:

1.一种透明阻气膜的制造方法,在该制造方法中使用了卷对卷方式,其中,

该透明阻气膜的制造方法包括下述工序:使长条带状的树脂基板交替地穿过蒸镀区域和非蒸镀区域,从而在所述长条带状的树脂基板上蒸镀多个层,其中,在该蒸镀区域中,通过产生等离子体而使含有金属和准金属中的至少1种的材料蒸镀,在该非蒸镀区域中,不使所述材料蒸镀,

在所述蒸镀区域中,通过使所述树脂基板和等离子体源之间的距离变化而在所述树脂基板上形成透明阻气层,该透明阻气层具有多个密度沿厚度方向发生连续变化的层。

2.根据权利要求1所述的透明阻气膜的制造方法,其中,

所述距离的变化是所述树脂基板和等离子体源之间的距离变大和变小这样的变化中的至少一种。

3.根据权利要求1或2所述的透明阻气膜的制造方法,其中,

所述密度发生连续变化的层包含自氧化物、氮化物、碳化物、氮氧化物、碳氧化物、碳氮化物以及碳氮氧化化物构成的组中选出的至少1种。

4.一种透明阻气膜的制造装置,该透明阻气膜具有透明阻气层,该透明阻气层具有多个密度沿厚度方向发生连续变化的层,其中,该透明阻气膜的制造装置具有:

腔室,其具有蒸镀区域和非蒸镀区域;等离子体源,其用于产生等离子体;蒸镀源,其所包含的材料含有金属和准金属中的至少1种;输送装置,其用于输送长条带状的树脂基板,

所述输送装置构成为,使所述树脂基板交替地穿过所述蒸镀区域和非蒸镀区域,且在使所述树脂基板穿过蒸镀区域时,以使所述树脂基板与所述等离子体源远离或者靠近的方式输送所述树脂基板。

5.根据权利要求4所述的透明阻气膜的制造装置,其中,

所述输送装置构成为,以螺旋状的输送轨迹输送长条带状的树脂基板。

6.根据权利要求4或5所述的透明阻气膜的制造装置,其中,

利用所述等离子体源的等离子体照射而在所述蒸镀区域中产生等离子体密度最高的部分和等离子体密度最低的部分,

所述输送装置具有用于将所述长条带状的树脂基板卷绕成螺旋状的1个导辊,

所述导辊的轴沿着与将所述等离子体密度的最高部分和最低部分连结起来的假想线正交的方向配置。

7.根据权利要求4或5所述的透明阻气膜的制造装置,其中,

利用所述等离子体源的等离子体照射而在所述蒸镀区域中产生等离子体密度最高的部分和等离子体密度最低的部分,

所述输送装置具有多个用于将所述长条带状的树脂基板沿着该树脂基板的长度方向输送的导辊,

在所述导辊中的至少被设于所述蒸镀区域的导辊的轴沿着与将所述等离子体密度的最高部分和最低部分连结起来的假想线正交的方向配置。

8.根据权利要求4~7中任一项所述的透明阻气膜的制造装置,其中,

该透明阻气膜的制造装置还具有用于向所述腔室内供给反应气体的反应气体供给装置。

9.一种有机电致发光器件,其特征在于,该有机电致发光器件具有:

支承基板;以及

有机电致发光层,其形成在所述支承基板上,包括第1电极层、包含发光层的有机层、和第2电极层,

所述支承基板是利用权利要求1~3中任一项所述的制造方法得到的透明阻气膜。

10.一种有机电致发光器件,其特征在于,该有机电致发光器件具有:

支承基板;

有机电致发光层,其形成在所述支承基板上,包括第1电极层、包含发光层的有机层、和第2电极层;以及

密封部件,其用于密封所述有机电致发光层,

所述密封部件是利用权利要求1~3中任一项所述的制造方法得到的透明阻气膜。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480001509.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top