[实用新型]一种触控面板

说明书

技术领域

本实用新型属于触控技术领域，特别涉及一种触控面板。

背景技术

电容式触摸屏的构造主要是在玻璃屏幕上镀一层透明的薄膜导体层，再在导体层外加上一块保护玻璃，双玻璃设计能彻底保护导体层及感应器。随着人们对触摸屏产品透光性的要求越来越高，能够提升产品透过率的增透膜也在不断开发和研究，现有技术主要是通过真空蒸镀氟化镁(MgF2)作为增透膜来提升产品的透过率，但是对于固定膜厚的氟化镁膜，通常仍有部分光能量被反射，再加之对于其它波长的光，给定膜层的厚度不是这些光在薄膜中的波长的1/4，增透效果较差。在通常情况下，入射光为白光，增透膜只能对一定波长的光起到增透作用，其他波长的光反射率仍然较高。另外，触摸屏的玻璃基板表面设置ITO线路，单面ITO玻璃反射率较高，会出现ITO底影，为了消除底影，通常增加消影层，而该消影层的增加也降低了整个面板的透过率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种触控面板，使之既能够消除电极底影又可以增加面板的透光率。

本实用新型是这样实现的，一种触控面板，包括玻璃基板，在所述玻璃基板的一表面依次叠层设置五氧化二铌膜层和二氧化硅膜层，于所述二氧化硅膜层的表面设有透明电极图形，所述五氧化二铌膜层的厚度为所述二氧化硅膜层的厚度为所述玻璃基板、五氧化二铌膜层和二氧化硅膜层对可见光的总透过率大于93％，所述玻璃基板、五氧化二铌膜层、二氧化硅膜层及透明电极图形对可见光的总透过率与所述玻璃基板、五氧化二铌膜层和二氧化硅膜层对可见光的总透过率相差1％以内。

作为本实用新型的优选技术方案：

所述五氧化二铌膜层的厚度为

所述玻璃基板、五氧化二铌膜层和二氧化硅膜层对可见光的总透过率为93％～94％。

所述玻璃基板、五氧化二铌膜层、二氧化硅膜层及透明电极图形对可见光的总透过率为92.5％～93.5％。

所述五氧化二铌膜层为针对波长为460～760nm的可见光的增透层。

所述五氧化二铌膜层和二氧化硅膜层构成的膜层为针对波长为460～760nm之外的可见光的增透层。

本实用新型在玻璃基板上设置上述厚度的五氧化二铌膜层和二氧化硅膜层，其透过率可达93％以上，而ITO区域的透过率也达到92％以上，两处透过率相差1％以内，在实现消影的同时具有较高的透过率。现有技术中触控面板(非ITO区域)对可见光的透过率为90％，ITO区域对可见光的透过率为89.5％～90.5％，虽然实现了消影功能，但整体透过率偏低，亮度不够，本实用新型在保证消影效果的同时增加了3％以上的透过率，使触控面板的亮度明显增大，提升了视觉效果。

附图说明

图1是本实用新型实施例提供的触控面板的结构示意图；

图2是本实用新型实施例提供的触控面板的增透原理图；

图3是本实用新型实施例提供的触控面板的制作方法的流程图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

以下结合具体实施例对本实用新型的具体实现进行详细描述：

请参考图1，本实用新型实施例提供一种触控面板，该触控面板至少包括一玻璃基板101，在该玻璃基板101的一表面依次叠层设置第一增透层—五氧化二铌膜层102，和第二增透层—二氧化硅膜层103，该五氧化二铌膜层102和二氧化硅膜层103作为增透膜同时又具有消影功能，在二氧化硅膜层103的表面设有透明电极图形104，该透明电极图形104通常为ITO电极图形。五氧化二铌膜层102和二氧化硅膜层103构成增透膜，其中的五氧化二铌膜层102的厚度为进一步优选为二氧化硅膜层103的厚度为其中，玻璃基板101、五氧化二铌膜层102和二氧化硅膜层103对可见光的总透过率可以达到93％以上，而玻璃基板101、五氧化二铌膜层102、二氧化硅膜层103及透明电极图形104对可见光的总透过率也能达到92％以上，与玻璃基板101、五氧化二铌膜层102和二氧化硅膜层103对可见光的总透过率相差1％以内。