[实用新型]一种电平转换电路有效

专利信息
申请号: 201420613798.2 申请日: 2014-10-22
公开(公告)号: CN204103893U 公开(公告)日: 2015-01-14
发明(设计)人: 肖晗;符志岗;朱同祥;欧新华;孙志斌;陈敏;袁琼 申请(专利权)人: 上海芯导电子科技有限公司
主分类号: H03K19/0185 分类号: H03K19/0185
代理公司: 上海硕力知识产权代理事务所 31251 代理人: 郭桂峰
地址: 201203 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 电平 转换 电路
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及集成电路技术领域,尤指一种电平转换电路。

背景技术

集成电路在运行过程中,为适应各种应用场景,往往需要不同的电压,例如在LCD驱动中,需要工作于正负压的电平转换电路,但电路的输入电压往往为单一的,因此,集成电路设计时往往需要把输入电压转换成不同应用场景的相应电压。

现有技术中,LCD等芯片的集成电路通常采用CMOS工艺制程,并且随着工艺水平的提高,电路集成度不断提高,单个器件的尺寸和工作电压在降低,MOS器件的击穿电压在逐渐降低,这对电路设计业提出了新的要求。工作于负电压的电平转换电路,其漏极需要输出较大的负电压,这在传统的P型衬底旳基片里,会形成寄生diode导通。因此,在负电压切换过程中防止寄生器件导通是设计时务必要解决的问题。

为了解决电路器件被击穿的问题,常常使用EPI隔离工艺,即增加EPI层隔离衬底,可以有效避免寄生diode的生成,但该工艺的价格较高。因此,在现有技术中采用特定的电路结构来避免使用EPI隔离工艺可以有效降低成本。

如图1所示,为现有技术1传统实现低压转换的电平转换电路,用于实现两个不同低电压之间的电平转换。但在高压邻域,由于gate端的耐压问题不够,则需要解决gate端的耐压问题。

如图2所示,为现有技术2基于LDMOS架构的实现高压转换的电平转换电路,以解决gate端不能耐高压的问题,其漏极采用耐高压的LDMOS工艺,但电路不能输出负电压,否则将会产生寄生diode。

实用新型内容

本实用新型为了解决non-epi工艺条件下现有技术中电平转换电路不能输出负电压的问题,从而提供一种电平转换电路,用于根据输入信号的变换使输出电压在正电压和负电压之间切换输出。

为了实现本实用新型以上实用新型目的,本实用新型提供的一种电平转换电路是通过以下技术方案实现的:

一种电平转换电路,所述电平转换电路包括:

P50,P51,P52,P53,P54,N20,N21;其中,P50,P51,P52,P53,P54,N20,N21源极分别连接DNW输入电位电压AVSS;

N20,N21具有逻辑电位相反的输入信号;

P50栅极连接P51漏极,P50漏极连接P52源极,P50源极连接电源电压;

P51栅极连接P50漏极,P51漏极连接P53源极,P52、P53栅极互连,P52漏极连接N20漏极,P53漏极连接N21漏极,N20、N21源极互连;

P50和P52连接点电位为电位B,P51和P53的连接点电位为电位A,电位A经驱动器后的电位为电位C;

P54栅极连接电位C,P54源极连接电源电压,P54漏极连接电位A,P54漏极输出电位经N阱结构进行电平转换后输出电位VOUT。

优选地,所述N阱结构跨接于电位A和电位B间,包括若干个N管:N1,N2,……Nn,Nn+1,以及一P管P1,第一个N管N1源极连接电位B,N1栅极连接N1的输入电位,N1漏极连接N2管源极,N2源极连接N1漏极,N2栅极连接N1输入电位,……,Nn源极连接Nn-1漏极,Nn栅极连接Nn输入电位,Nn漏极连接Nn+1漏极,Nn+1栅极连接Nn输入电位,Nn+1漏极连接Nn漏极;

所述P1管源极连接Nn-1源极,漏极连接I_biasp,栅极连接PLOWB。

本实用新型实施例的电平转换电路,通过N阱转换结构,实现了覆盖正电压域到负电压域的电平转换,该电路可实现任意输入电压的电平转换,工艺简单,且实现成本低廉。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细说明:

图1为现有技术1传统实现低压转换的电平转换电路;

图2为现有技术2基于LDMOS架构的实现高压转换的电平转换电路;

图3为本实用新型实施例电平转换电路;

图4为本实用新型实施例N阱结构示意图。

具体实施方式

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

需要说明的是,本实用新型实施例中,P沟道金属氧化物半导体场效应管统称为P管,N沟道金属氧化物半导体场效应管统称为N管。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海芯导电子科技有限公司,未经上海芯导电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420613798.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top