[实用新型]一种湿式刻蚀机的喷淋装置有效
申请号: | 201420418404.8 | 申请日: | 2014-07-28 |
公开(公告)号: | CN204102920U | 公开(公告)日: | 2015-01-14 |
发明(设计)人: | 侯飞 | 申请(专利权)人: | 浙江德西瑞光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 宁波市鄞州盛飞专利代理事务所(普通合伙) 33243 | 代理人: | 张向飞 |
地址: | 314415 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 刻蚀 喷淋 装置 | ||
技术领域
本实用新型属于机械设备技术领域,涉及一种刻蚀机,特别是一种湿式刻蚀机的喷淋装置。
背景技术
太阳能作为一种新型的可再生能源,随着人们对其不断地开发与研究,太阳能的运用的领域越来越广,作用越来越大。其中太阳能电池已经不是一个陌生的话题了,并且人们对于太阳能电池仍然在挖掘与探究,从未停留过。
如中国实用新型专利申请(申请号:201310489196.0)公开了一种硅太阳能电池生产中的湿刻蚀方法,其中该湿刻蚀装置的结构包括刻蚀槽和刻蚀槽上方的喷淋头,刻蚀槽内还设有若干个带液滚轮,在硅片的扩散面上通过水喷淋系统喷淋去离子水,形成水膜保护层,该水膜保护层一直持续存在,直到硅片完成刻蚀步骤,该发明能够稳定控制刻蚀后的方阻上升值,增加了PN结的有效面积,提高电池片的转换效率。但该刻蚀机在对硅片进行喷淋,硅片表面水膜不均匀,水会进入刻蚀槽,从而会减少腐蚀量。
发明内容
本实用新型的目的是针对现有的技术存在上述问题,提出了一种湿式刻蚀机的喷淋装置,该装置解决了硅片表面水膜不均匀与刻蚀槽内腐蚀量下降的现象。
本实用新型的目的可通过下列技术方案来实现:一种湿式刻蚀机的喷淋装置,包括可盛放刻蚀溶液的槽体和设在槽体上方的喷淋头,所述喷淋头与水管相连,所述槽体内设有带液滚轮,所述带液滚轮的一端穿出槽体并与设置在槽体一侧的电机相连,其特征在于,所述带液滚轮的上方设有赶水滚轮和轮轴,所述赶水滚轮套在轮轴上空转,所述槽体的侧壁上连接有能改变轮轴高度的升降结构,另外所述硅片在带液滚轮与赶水滚轮之间输送。
喷淋头的顶端设有出水口,带液滚轮在电机的带动下,当硅片随着带液滚轮输送经过喷淋头时,喷淋头向硅片表面喷上水,硅片表面就会形成一层水膜,通过升降结构调节赶水滚轮的高度,从而控制硅片表面的水膜厚度。
所述硅片呈方形,硅片平靠在带液滚轮上方。带液滚轮在电机的带动下,对硅片进行输送,带液把硅片四个边缘的PSG去除干净。
所述升降结构包括一端铰接在槽体侧壁上可沿铰接点摆动的摆臂,所述摆臂的另一端与轮轴端垂直相固连,所述摆臂上连接有带动摆臂摆动的摇柄。轮轴是固定不旋转的,转动摇柄对摆臂进行上下调节,轮轴会随着摆臂的上下运动而运动,轮轴带动赶水滚轮控制水膜的厚度。
作为另一种方案,所述升降结构包括凸轮、带动凸轮转动的马达、固定在槽体侧壁上的导套和设于导套内可沿导套上下滑行的导杆,所述导杆上端与轮轴垂直相固连,所述导杆下端始终与凸轮的轮面相抵靠,所述在槽体侧壁上设有控制马达的开关。启动槽体侧壁上的开关,马达运转带动凸轮旋转,由于凸轮的边缘离轴心距离不同,故凸轮不同面接触到导杆时,导杆会上下运动带动轮轴,利用赶水滚轮对硅片上的水膜厚度进行调节。
所述喷淋头两侧各设有一个赶水滚轮。喷淋头喷出的水在硅片上方形成一层水膜,对硅片上方的PSG进行保护,赶水滚轮使硅片表面水膜达到均匀的目的,减少水进入刻蚀槽的概率,从而使腐蚀量不会出现大的下降。
所述槽体为长方形,所述赶水滚轮的长度与槽体宽度相同。
与现有技术相比,本湿式刻蚀机的喷淋装置在硅片上方设置多个赶水滚轮,对硅片上方的PSG起到一个保护作用,并且赶水滚轮的运转会使硅片表面水膜均匀覆盖,减少水进入刻蚀槽的概率,从而使腐蚀量不会出现大的下降。
附图说明
图1是一种湿式刻蚀机的喷淋装置结构示意图。
图2是一种湿式刻蚀机的喷淋装置侧边结构示意图。
图3是实施例一中升降结构的结构示意图。
图4是实施例二中升降结构的结构示意图
图中,1、槽体;2、喷淋头;3、带液滚轮;4、电机;5、赶水滚轮;51、轮轴;6、摆臂;61、摇柄;7、凸轮;71、导杆;72、导套;8、马达;81、开关;9、硅片。
具体实施方式
实施例一
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