[实用新型]电离室位置校准装置

权利要求书

1.一种电离室位置校准装置，其特征在于，所述电离室位置校准装置具体包括：

X射线管，发射X射线光束，固定在校准平台上；

第一导轨，固定在所述校准平台上，与所述X射线光束方向平行；

移动平台，滑设在所述第一导轨上，沿所述第一导轨移动，所述移动平台上具有第二导轨，与所述第一导轨垂直；

测量装置，滑设在所述第二导轨上，沿所述第二导轨移动，具有放置基准电离室的第一平台和放置待校准电离室的第二平台；

其中，调节所述测量装置和第一平台，使得所述X射线管对应的激光器发射的激光十字中心从所述基准电离室的X光出光孔中心射入所述基准电离室的X光进光孔中心，所述激光器的激光十字中心与所述X射线主束中心相同，对所述基准电离室检测得到第一检测结果；调节所述测量装置和第二平台，使得所述激光十字中心对准所述待校准电离室的灵敏体积中心，对所述待校准电离室检测得到第二检测结果，根据所述第一检测结果和第二检测结果得到所述待校准电离室的刻度因子。

2.根据权利要求1所述的电离室位置校准装置，其特征在于，所述X射线管具体为钼靶X光机。

3.根据权利要求1所述的电离室位置校准装置，其特征在于，所述电离室位置校准装置还包括滤过装置，所述X射线管发射的X射线光束透过所述滤过装置过滤。

4.根据权利要求1所述的电离室位置校准装置，其特征在于，所述第二平台具有高度调节装置。