[实用新型]一种三氯氢硅合成炉有效
申请号: | 201420324903.0 | 申请日: | 2014-06-18 |
公开(公告)号: | CN203922739U | 公开(公告)日: | 2014-11-05 |
发明(设计)人: | 罗周;刘汉元;李斌;甘居富 | 申请(专利权)人: | 四川永祥多晶硅有限公司 |
主分类号: | C01B33/107 | 分类号: | C01B33/107 |
代理公司: | 成都天嘉专利事务所(普通合伙) 51211 | 代理人: | 冉鹏程 |
地址: | 614899 四川省*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 三氯氢硅 合成 | ||
1.一种三氯氢硅合成炉,包括反应段、气体分布板和下封头,下封头连接在反应段上,气体分布板连接在下封头上,其特征在于:所述气体分布板上设置有喷嘴,喷嘴位于下封头内。
2.根据权利要求书1所述的一种三氯氢硅合成炉,其特征在于:所述反应段的上端直径大于下端直径,下封头连接在反应段的下端上,气体分布板的直径与下端直径相等。
3.根据权利要求书1或2所述的一种三氯氢硅合成炉,其特征在于:所述气体分布板上设置有多个等径螺孔,喷嘴通过螺纹连接在螺孔上。
4.根据权利要求书1所述的一种三氯氢硅合成炉,其特征在于:所述喷嘴中心设置有通气孔,通气孔为阶梯孔,通气孔的进气口口径小于出气口口径,出气口与螺孔连通。
5.根据权利要求书1、2或4所述的一种三氯氢硅合成炉,其特征在于:所述下封头用法兰连接在反应段上,气体分布板连接在法兰上,气体分布板与法兰之间设置有石棉垫片。
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