[实用新型]晶圆研磨设备有效
| 申请号： | 201420307930.7 | 申请日： | 2014-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN203863494U | 公开（公告）日： | 2014-10-08 |
| 发明（设计）人： | 史爱波 | 申请（专利权）人： | 史爱波 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B37/16;B24B37/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 315193 浙江省宁波市鄞州区*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种晶圆研磨设备，其特征在于：包括研磨盘(1)，所述研磨盘(1)底部中心处设有驱动装置一(2)，所述驱动装置一(2)底部设有滑块(12)，所述滑块(12)安装于滑轨(13)上，所述研磨盘(1)上表面设有研磨布(3)，所述研磨盘(1)上方设有研磨头(4)和研磨剂供给装置(5)，所述研磨头(4)上部中心处设有驱动装置二(14)，所述研磨头(4)底部设有衬垫(6)，所述研磨头(4)底部周圈设有限位环(7)，所述限位环(7)、衬垫(6)以及研磨盘(1)围成的封闭空间内设有工件(8)，所述研磨盘(1)的上表面边缘处设有凹槽(9)，所述凹槽(9)设于研磨头(4)的圆形运动轨迹外侧。
2.根据权利要求1所述的晶圆研磨设备，其特征在于：所述衬垫(6)上设有通孔(11)用以供给研磨剂。
3.根据权利要求2所述的晶圆研磨设备，其特征在于：所述研磨头(4)设有2组，以研磨盘(1)的一直径为对称中心线相对称布置。
4.根据权利要求3所述的晶圆研磨设备，其特征在于：所述衬垫(6)通过伸缩支杆(10)连接于研磨头(4)的下表面。
5.根据权利要求4所述的晶圆研磨设备，其特征在于：所述研磨盘(1)和研磨头(4)的旋转方向相反。
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