[实用新型]曝光机的曝光平台有效
申请号: | 201420235224.6 | 申请日: | 2014-05-08 |
公开(公告)号: | CN203858451U | 公开(公告)日: | 2014-10-01 |
发明(设计)人: | 张鸿明 | 申请(专利权)人: | 川宝科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 | 代理人: | 韩龙;金卫文 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 平台 | ||
1.一种曝光机的曝光平台,用于承载一基板并对位于一曝光光源下方,其特征在于,包含:
一曝光框;
一载台,可相对该曝光框接近或远离,该载台的上表面具有一容置区,该容置区用于放置该基板并使该曝光光源的入射光投射至该基板;
多个升降单元,设置于该曝光框上;以及
一透光板,与这些升降单元结合,该透光板由这些升降单元驱动而朝向或远离该载台的容置区移动。
2.如权利要求1所述的曝光机的曝光平台,其特征在于,各该升降单元具有一基座、一活塞及一夹具,该基座固定于该曝光框上,该活塞可往复移动地容置于该基座的一容置槽内并具有一往复行程,该活塞的一端通过该容置槽的槽口并结合至该夹具,该夹具夹持该透光板。
3.如权利要求2所述的曝光机的曝光平台,其特征在于,该基座的容置槽的槽口具有一第一定位部,且该夹具具有对应该第一定位部的一第二定位部。
4.如权利要求2或3所述的曝光机的曝光平台,其特征在于,该往复行程为3.5±0.5mm。
5.如权利要求2或3所述的曝光机的曝光平台,其特征在于,该曝光平台具有一真空表,用于侦测真空度。
6.如权利要求5所述的曝光机的曝光平台,其特征在于,该升降单元电性连接一主控计算机,用于当该真空表侦测到的气压达一预定值时,该主控计算机控制这些升降单元作动使该透光板朝向该载台的容置区移动且贴合该载台上表面的基板。
7.如权利要求6所述的曝光机的曝光平台,其特征在于,该活塞邻近一端处具有一密封圈,该基座上具有一放松进气孔及一夹持进气孔,该密封圈在该放松进气孔与该夹持进气孔之间往复移动且使该基座的容置槽内被隔离形成一放松进气室及一夹持进气室,该放松进气孔连通该放松进气室,该夹持进气孔连通该夹持进气室,该放松进气孔及该夹持进气孔用于分别连接至一进气装置,且该进气装置电性连接该主控计算机。
8.如权利要求1所述的曝光机的曝光平台,其特征在于,这些升降单元的数量为至少四个以上。
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