[实用新型]一种控制腔室间狭缝开关的阀门装置

说明书

技术领域

本实用新型属于半导体制造技术领域，设计一种狭缝阀门装置，特别是涉及一种控制腔室间狭缝开关的阀门装置。

背景技术

在半导体制造工艺中，通常将真空腔室(如加载锁定、传送装置、处理腔室)排置为群集式、直列式或群集式/直列式的组合，以处理晶圆。这些系统可以采用单一基板或批式基板的方式来处理晶圆。在处理过程中，晶圆会在腔室之间传送，比如从传送室将晶圆传递到工艺室，所述腔室内必须维持或建立真空。为了允许晶圆进入腔室内部，并能够进行真空操作，通常在腔室与腔室之间的壁上穿设形状为狭缝的开口，用以容纳并传递待处理的晶圆。

在真空腔室与真空腔室之间的各界面，可存在有狭缝阀组件。狭缝阀门为可移动地致动，以开启或关闭狭缝阀通道。当开启狭缝阀通道时，可允许一或多个晶圆通过所述狭缝而传送于两真空腔室之间。当狭缝阀门将狭缝阀通道关闭时，晶圆则无法通过狭缝阀通道而于二真空腔室之间传送，且二真空腔室为彼此隔离。举例来说，真空腔室的中的一个真空腔室为处理腔室，而所述处理腔室需与其它腔室(例如其它处理腔室或传送腔室)隔离。

如图1和图2所示为现有技术中控制腔室间狭缝开关的阀门装置，该装置呈现活塞形状，当机台需要做定期维护时，等两边的传送腔1A和工艺腔2A的压力相等，只需要按下系统的设置按钮，活塞状的阀门4A就会缩回，打开狭缝3A，见图1；当机台进行正常的工艺时，阀门4A伸长，与狭缝3A贴合，使两侧的腔室隔离，见图2。但是，当工艺进程出现突发情况时，往往两边腔室的压力并不相等，系统设置的按钮此时并不起作用，这时，一般会使用到DIO开关阀门，该DIO开关阀门是手动部件，并不能检测两边腔室的压力是否相等，当腔室压力不相等时启动DOI开关阀门，会导致机台做出错误动作，使腔室的晶圆遭受损坏，降低晶圆的产率。

因此，提供一种新型的控制腔室间狭缝开关的阀门装置实属必要。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种控制腔室间狭缝开关的阀门装置，用于解决现有技术中阀门装置误操作导致工艺中的晶圆遭受损坏的问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种控制腔室间狭缝开关的阀门装置，所述腔室包括第一腔室和第二腔室，所述第一腔室与第二腔室之间的腔壁上设置有狭缝，所述阀门装置至少包括：

用于测量所述第一腔室内部压力的第一压力计；

用于测量所述第二腔室内部压力的第二压力计；

用于比较所述第一腔室和第二腔室内部压力是否相等、之后输出控制信号的压力信号处理器，该压力信号处理器的输入端与所述第一压力计和第二压力计相连接的；

用于开启和关闭所述狭缝的阀门，该阀门与所述压力信号处理器的输出端相连接并接收所述压力信号处理器输出的控制信号；当所述第一腔室和第二腔室内部压力相等时，所述阀门接收到所述压力信号处理器输出的开启的控制信号，从而将阀门打开；当所述第一腔室和第二腔室内部压力不相等时，所述阀门接收到所述压力信号处理器输出的关闭的控制信号，从而保持阀门关闭。

作为本实用新型控制腔室间狭缝开关的阀门装置的一种优化的结构，所述阀门至少包括结构：

阀门外壳，其内部为空腔，所述空腔被一隔板分为上腔体和下腔体；所述隔板上设置有连通所述上腔体和下腔体的第一孔；所述上腔体的上壁具有与所述第一孔对应第二孔；

电磁体，通过伸缩件与上腔体两侧的内壁相连接；

阀门杆，穿过所述第一孔和第二孔上下移动；所述阀门杆一端位于所述下腔体内、另一端正对于所述狭缝；所述阀门杆上设置有卡持结构；当所述阀门杆密封狭缝时，所述卡持结构处于上腔体中并由所述电磁体卡持固定。

作为本实用新型控制腔室间狭缝开关的阀门装置的一种优化的结构，所述压力信号处理器包括：信号处理单元、主控单元、控制信号输出单元、信号指示灯和电源；

所述信号处理单元的输入端和所述第一压力计、第二压力计相连接；

所述信号处理单元的输入端和所述第一压力计、第二压力计相连接；

所述信号处理单元的输出端与所述主控单元的输入端相连接；

所述主控单元的输出端与控制信号输出单元及信号指示灯相连接。

作为本实用新型控制腔室间狭缝开关的阀门装置的一种优化的结构，所述阀门杆正对于狭缝的一端的端面上具有密封所述狭缝的密封圈。

作为本实用新型控制腔室间狭缝开关的阀门装置的一种优化的结构，所述阀门杆呈“工”字形状。

作为本实用新型控制腔室间狭缝开关的阀门装置的一种优化的结构，所述伸缩件为弹簧。