[实用新型]触控面板有效
申请号: | 201420071112.1 | 申请日: | 2014-02-19 |
公开(公告)号: | CN203786695U | 公开(公告)日: | 2014-08-20 |
发明(设计)人: | 罗华;叶惠林;余晶;邱宗科 | 申请(专利权)人: | 宸鸿科技(厦门)有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 361009 福建省厦门市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 面板 | ||
1.一种触控面板,系用于一触控式电子装置,该触控面板包括:一第一基板,该第一基板具有一第一表面,其中该第一表面经过一雾化处理后形成至少一半透区域;其中该半透区域内具有一第一半透结构,该第一半透结构系藉由一雾化区域及一非雾化区域互相交错而成,以藉由调整该雾化区域之面积来改变该第一半透结构之光遮蔽率。
2.根据权利要求1所述的触控面板,其特征在于:该雾化处理包括一激光处理、一酸蚀刻处理、一喷砂处理或一表面研磨处理。
3.根据权利要求1所述的触控面板,其特征在于:该雾化区域系为一连续之不透明结构,该非雾化区域系为一连续之透明结构。
4.根据权利要求3所述的触控面板,其特征在于:该雾化区域与该非雾化区域在该第一基板之该第一表面的水平面上互相交错排列成一螺旋状。
5.根据权利要求1所述的触控面板,其特征在于:该雾化区域系为一不连续之不透明结构,该非雾化区域系为一不连续之透明结构。
6.根据权利要求5所述的触控面板,其特征在于:该雾化区域与该非雾化区域在该第一基板之该第一表面的水平面上互相交错排列成多个同心圆。
7.根据权利要求1或4或6所述的触控面板,其特征在于:该雾化区域具有复数之不透明凹槽,该雾化区域与该非雾化区域在垂直于该第一基板之该第一表面的方向上交错形成波浪状。
8.根据权利要求1所述的触控面板,其特征在于:该第一基板进一步具有一经过雾化处理之第二表面,该第一基板之该第二表面具有一第二半透结构,该第二半透结构位于该半透区域内。
9.根据权利要求8所述的触控面板,其特征在于:该第一基板第一表面与该第一基板第二表面互相平行。
10.根据权利要求1所述的触控面板,其特征在于:该触控面板进一步包括:
一感应区;一周边区,系至少设置于该感应区之一侧,其中该半透区域系位于该周边区中;
一感测电极层,系设置在第一基板的第一表面上且至少位于该感应区中;以及
一遮蔽层,系设置在第一基板的第一表面上且位于该周边区中;其中该半透区域内不设置该遮蔽层。
11.根据权利要求1所述的触控面板,其特征在于:该触控面板进一步包括:
一感应区;
一周边区,系至少设置于该感应区之一侧,其中该半透区域系位于该周边区中;
一第二基板,系位于该第一基板的第一表面上;
一感测电极层,系设置在第二基板上且至少位于该感应区中;以及一遮蔽层,系设置在第一基板的第一上表面上且位于该周边区中;其中该半透区域内不设置该遮蔽层。
12.根据权利要求10或11所述的触控面板,其特征在于:更包括一光遮蔽率调整部,系设置于该第一基板的第一表面上,并位于该半透区域中,其中该光遮蔽率调整部包括一透明结构及一不透明结构;其中于该第一基板的垂直方向上,该第一半透结构之雾化区域系部分或全部位于该光遮蔽率调整部的透明结构中。
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