[实用新型]一种可调节流态物质液面高度的堰板组件有效
申请号: | 201420038969.3 | 申请日: | 2014-01-22 |
公开(公告)号: | CN203684172U | 公开(公告)日: | 2014-07-02 |
发明(设计)人: | 蒋剑虹;王宏辉;罗友元;黄子平 | 申请(专利权)人: | 中机国际工程设计研究院有限责任公司 |
主分类号: | E02B7/20 | 分类号: | E02B7/20 |
代理公司: | 长沙丁卯专利代理事务所(普通合伙) 43211 | 代理人: | 黄子平 |
地址: | 410007 *** | 国省代码: | 湖南;43 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 可调 节流 物质 液面 高度 组件 | ||
技术领域
本实用新型涉及用于限位流态物质如水、浮油、浮状物等流入或流出的堰板,具体涉及一种可调节流态物质流入或流出液面高度的堰板组件。
背景技术
堰板是用于限位流态物质流出或流入的板状构件,堰板上沿的最低端所处的高度即决定流态物质能否流经堰板的液面高度。堰板可单独用于流态物质从一个区间流入另一区间,通常用做集水槽、集油槽、集污槽、配水槽(也称集水堰、集油堰、集污堰、配水堰、堰槽等)的侧板,即堰槽类构件的侧板。
堰板的结构通常有两种形式。一种是堰板的上端面为平面结构,堰板的本体上没有通道,流态物质则由堰板上端面的上方越过,一种是在堰板的上沿设置凹状结构(如齿形结构等)而构成堰板本体上的通道(两齿状结构之间的空间),堰板本体上的通道的底端则为该通道的低端;堰板的上端面或者是堰板本体上通道的低端的高度常常被设定为一个定值,即固定的高度;为满足作业的需要,可调节流态物质流出或流入液面高度的堰板或应用可调节液面高度的堰板所组成的槽类构件随之被应用。
申请号201220151097.2的专利文献公开了“一种出水堰”,其结构包括堰槽,堰槽的一侧为浮渣挡板,另一侧的槽板上连接堰板,堰板上沿有锯齿形开口,锯齿形开口为堰板本体上的通道,通道的底端为该通道的低端,堰板上有若干垂直方向(竖向)的长条形孔,以螺栓构件作为堰板上下移动时的限位导向件,堰板两端分别连接一提升机构,操作两端的提升机构,可带动堰板本体垂直方向上下位移,而调节入水或出水液面的高度。不足的是:其一,由于堰板两端分别设置提升机构,在调节堰板上、下移动时,需分别操作两端的提升机构,如为两人分别同时操作,两人的操作过程难以实现同步,容易造成堰板两端的高低不一致,导致堰板两端及其上的各通道的低端不能处在同一水平线上,如为一人按先后顺序分别进行两端的操作,同样容易造成堰板两端的高低不一致,导致堰板两端及其上的各通道的低端不能处在同一水平线上;产生堰板两端及其上各通道的低端不能处在同一水平线上的现象,容易产生偏流而引起水流波动或许水流冲击,影响运行的稳定性,而且,为两人操作时需增加操作人员,为一人操作时需先后进行两端的操作,则操作过程较多;其二,堰板两端均设置提升机构,使结构趋于复杂,增加制造成本。
发明内容
本实用新型的目的是提出一种可调节流态物质液面高度的堰板组件,堰板组件中的移动堰板以水平方向沿固定堰板移动,移动堰板水平方向的位移可调节堰板组件上的通道低端的高度,堰板组件上的通道低端所处高度的调节即随之调节流态物质流入或流出的液面高度,且液面高度调节后的移动堰板两端处在同一水平线上,以及调节后的堰板组件上的各通道的低端均处在同一水平线上,而且,移动堰板水平位移的驱动机构结构简化,调节液面高度的操作过程简便。
本实用新型的技术方案参见附图:
本堰板组件10包括固定堰板1和可沿该固定堰板水平位移的移动堰板2;
所述固定堰板1的上沿为第一齿状结构1a,相邻的第一齿状结构1a之间的空间为该固定堰板上的第一通道1b;
所述移动堰板2的上沿为第二齿状结构2a,第二齿状结构2a的结构参数与固定堰板1上的第一齿状结构1a的结构参数相同,相邻的第二齿状结构2a之间的空间为该移动堰板上的第二通道2b;
所述移动堰板2上沿的第二齿状结构2a与固定堰板1上沿的第一齿状结构1a对应组合构成本堰板组件上的通道3,移动堰板2的水平位移可调节所述通道3低端的高度;调节通道3低端的高度即随之实现流态物质流入或流出液面高度的调节;
如图1、图9、图11所示,在移动堰板2上的第二齿状结构2a与固定堰板1上的第一齿状结构1a一一对应组合时, 移动堰板2上的第二通道2b与固定堰板1上的第一通道1b一一对应重合,此种状态下,所述堰板组件10上的通道3即为固定堰板1上的第一通道1b和移动堰板2上的第二通道2b,第一通道1b和第二通道2b的低端即为本堰板组件上的通道3的低端h1;当移动堰板2相对于固定堰板1水平位移一定距离后,所述第二齿状结构2a相对于第一齿状结构1a产生位移(即错位),第二齿状结构2a相对于第一齿状结构1a位移(错位)后所形成的空间即为本堰板组件10上调节后的通道3,参见图4、图5、图7,第二齿状结构2a与第一齿状结构1a错位后的边沿结合点即为本堰板组件10上调节后的通道3的低端h2。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中机国际工程设计研究院有限责任公司,未经中机国际工程设计研究院有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420038969.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。