[实用新型]一种光刻机的掩膜版降温装置有效

专利信息
申请号: 201420000246.4 申请日: 2014-01-01
公开(公告)号: CN203745795U 公开(公告)日: 2014-07-30
发明(设计)人: 滕飞 申请(专利权)人: 长沙创芯集成电路有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 410100 湖南省长沙*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 掩膜版 降温 装置
【权利要求书】:

1.一种光刻机的掩膜版降温装置,包括箱体(1),设于箱体(1)一侧的进风口(13),安装于箱体(1)内的工作架(3),依次设于工作架(3)下端的压缩机(14)、加热器(15)和送风机(16),和设于工作架(3)一侧的高效过滤器(2),设于工作架(3)内由上至下的掩膜版(6)、镜头(10)和硅片工作台(12),以及安装于箱体(1)上与掩膜版(6)对应的汞灯(4),所述压缩机(14)位于进风口(13)的一侧,所述送风机(16)位于高效过滤器(2)的一侧,其特征在于:还包括安装于工作架(3)内用于实时检测掩膜版(6)温度的红外温度测试仪(5),和与红外温度测试仪(5)连接的用于对掩膜版(6)进行降温的冷却降温装置。

2.根据权利要求1所述的光刻机的掩膜版降温装置,其特征在于:所述冷却降温装置包括冷气泵(8),与冷气泵(8)连接的冷气管(7)和设于冷气泵(8)内用于控制冷气管(7)导通的电磁阀(9),并且当红外温度测试仪(5)检测到掩膜版(6)的温度变化超过0.2℃时,所述电磁阀(9)打开,所述冷气泵(8)通过冷气管(7)向掩膜版(6)上通入冷却气体直至红外温度测试仪(5)检测到掩膜版(6)的温度降低0.2℃时,所述电磁阀(9)关闭。

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