[发明专利]一种摩擦设备

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示制作技术领域，尤其涉及一种摩擦设备。

背景技术

近年TFT-LCD行业蓬勃发展，产品技术越来越先进，我们对产品生产过程中品质管控提出了更高的要求。摩擦工艺是玻璃基板滴入液晶之前用摩擦辊在玻璃基板上摩擦，以使液晶分子能够有序的排列，是成盒工程的重要一环，而粉尘对于摩擦工艺的影响巨大。因此，玻璃基板在进入摩擦机之前都要经过USC清洗，也有先进的产线配备摩擦辊清洗装置。但由于目前的换辊单元都与摩擦机设计在一个封闭空间内，换辊时不可避免会有产线的粉尘进入摩擦机本体内部，造成摩擦环境的污染；并且摩擦辊也会粘附有产线的粉尘，而这些粉尘都会降低产品的品质。另外，使用当前换辊单位进行换辊操作时，必须等到摩擦机停止工作，解锁换辊入口门后，方可将新辊推入进行换辊。这种换辊方式造成了摩擦机闲置至少5分钟，降低了整个产线的生产效率。同时，打开换辊入口门后，操作人员将直接面对摩擦机内部，有被其内部安装的软X射线照射的危险，存在一定的安全隐患。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提供一种摩擦设备，换辊不会影响摩擦设备内的摩擦单元的环境，节省换辊时间。

为了达到上述目的，本发明采用的技术方案是：一种摩擦设备，包括容纳空间，设置在所述容纳空间内的摩擦单元和用于将第一摩擦辊替换为第二摩擦辊的换辊单元，

所述容纳空间内还设有一隔离结构，所述隔离结构将所述容纳空间划分为第一部分和第二部分，所述换辊单元位于所述第一部分，所述摩擦单元位于所述第二部分；所述隔离结构上设有一门，其中

所述门位于打开状态时，所述第一摩擦辊或第二摩擦辊可进出所述摩擦单元；

所述门位于关闭状态时，所述隔离结构将所述换辊单元和所述摩擦单元隔离为相互独立的空间。

进一步的，所述换辊单元包括用于对所述第二摩擦辊进行清洁的风淋装置。

进一步的，所述换辊单元包括用于对所述第二摩擦辊进行清洁的吸尘装置。

进一步的，还包括设于所述容纳空间上用于控制所述隔离结构上的门开闭的驱动装置。

进一步的，所述隔离结构包括一隔离板，所述隔离板的相对的两侧设有导轨，所述门在所述驱动装置的作用下可沿着所述导轨移动以呈打开或关闭状态。

进一步的，还包括设于所述容纳空间上用于所述第一摩擦辊或第二摩擦辊进出所述换辊单元的门，所述换辊单元的门呈打开状态时，所述隔离结构上的门呈关闭状态。

进一步的，还包括用于运输第一摩擦辊和第二摩擦辊的运输装置。

本发明的有益效果是：换辊单元与摩擦单元分离，换辊时不会影响摩擦单元的环境。

附图说明

图1表示本发明实施例第一部分结构示意图；

图2表示图1的侧视图；

图3表示本发明实施例隔离结构上的门关闭状态示意图；

图4表示本发明实施例隔离结构上的门打开状态示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本发明的结构和原理进行详细说明，所举实施例仅用于解释本发明，并非以此限定本发明的保护范围。

本实施例提供一种摩擦设备，包括容纳空间，设置在所述容纳空间内的摩擦单元和用于将第一摩擦辊替换为第二摩擦辊的换辊单元，

所述容纳空间内还设有一隔离结构，所述隔离结构将所述容纳空间划分为第一部分和第二部分，所述换辊单元位于所述第一部分，所述摩擦单元位于所述第二部分；所述隔离结构上设有一门，其中

所述门位于打开状态时，所述第一摩擦辊或第二摩擦辊可进出所述摩擦单元；

所述门位于关闭状态时，所述隔离结构将所述换辊单元和所述摩擦单元隔离为相互独立的空间。

图1所示的是摩擦设备中第一部分结构示意图，即换辊单元结构示意图，隔离结构的设置将换辊单元和摩擦单元分离开来，且仅在第一摩擦辊或第二摩擦辊进出所述摩擦单元时，所述隔离结构的门呈打开状态，如图3所示，其余情况下，隔离结构上的门呈关闭状态，如图4所示，此时，所述第一部分和所述第二部分被所述隔离结构隔离为相互独立的空间，即所述换辊单元和所述摩擦单元被隔离为相互独立的封闭空间，则在换辊单元进行换辊时，外部环境不会对摩擦单元的环境造成任何影响，且摩擦单元仍可正常工作，节省了时间，提高工作效率。

可选的，所述换辊单元包括用于对所述第二摩擦辊1进行清洁的风淋装置2。

可选的，所述换辊单元包括用于对所述第二摩擦辊1进行清洁的吸尘装置3。