[发明专利]一种菜豆直接再生体系的建立方法有效
申请号: | 201410661867.1 | 申请日: | 2014-11-19 |
公开(公告)号: | CN104472352A | 公开(公告)日: | 2015-04-01 |
发明(设计)人: | 古瑜;韩启厚;于海龙 | 申请(专利权)人: | 天津科润农业科技股份有限公司 |
主分类号: | A01H4/00 | 分类号: | A01H4/00 |
代理公司: | 天津市杰盈专利代理有限公司 12207 | 代理人: | 朱红星 |
地址: | 300457 天津市塘沽区经济技术*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 菜豆 直接 再生 体系 建立 方法 | ||
1.一种菜豆直接再生体系的建立方法,其特征在于按如下的步骤进行:
(1)菜豆无菌苗的获得:
挑选籽粒均匀、饱满的菜豆种子,置于玻璃容器内,将浓度为10%-30%的次氯酸钠溶液缓缓倒入容器内,使菜豆种子完全浸泡在次氯酸钠溶液中,整个消毒过程用时10-20min,并每隔1-2min搅拌一次,使种子表面与溶液充分接触,以保证消毒彻底,消毒后的菜豆种子用无菌水清洗4-5次,整个消毒过程在超净工作台内完成;将清洗后的菜豆种子插入萌发培养基内,种子插入一半即可,种子萌发环境为温度20℃-25℃,光周期为16h/8h光照/黑暗;
(2)直接再生培养基配方及操作方法:
将萌发5-6天的菜豆无菌苗在超净工作台中取出,放在灭菌后的培养皿里,切除顶端生长点及胚根,留下子叶节上下各1.5-3.5mm的下胚轴,顺着下胚轴将外植体纵向平均分开,得到两个对称的带子叶的子叶节,用刀片对纵切面进行划伤,伤口长3-4mm,深度0.3-0.5mm;将处理好的外植体近轴面向上与培养基成45度角斜插入芽诱导培养基中,密封并置于培养室中培养,培养环境为温度20℃-25℃,光周期为16h/8h光照/黑暗;培养基每隔5-10天更换一次,15-20天后可获得再生植株;所述的芽诱导培养基指的是:MSB5+ 6-BA 1.0-6.0 mg/L+IAA 0.1-1.0 mg/L+活性炭10-50mg/L;
(3)再生芽的生根培养基配方及操作方法:将长到4-5cm的不定芽延基部从外植体上切下,插入1/2MSB5+ IBA 0.1-1.0 mg/L+活性炭5-30mg/L生根培养基内,密封好后置于培养室内培养,培养环境为温度20-25℃,光周期为16h/8h光照/黑暗,7-10天顺利生根;
(4)组培苗的移栽方法:生根后的组培苗,在培养室内开盖炼苗3-5天,然后移栽到装有基质的营养钵内,将移栽好的组培苗放在塑料拱棚内生长,保证拱棚内的温度25-28℃,相对湿度60%,拱棚内生长5天逐渐给拱棚放风,直至幼苗适应温室环境,再将拱棚撤去;
(5)成活的组培苗便可移栽入露地进行正常管理。
2.权利要求1所述的菜豆直接再生体系的建立方法,其中的菜豆品种指的是双丰3号。
3.权利要求所述菜豆直接再生体系的建立方法在提高菜豆生芽率、生根率、植株成苗率方面的应用。
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