[发明专利]一种快速制备等离子刻蚀机用高纯氧化钇涂层的方法

权利要求书

1.一种快速制备等离子刻蚀机用高纯氧化钇涂层的方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)喷涂前对环境卫生、喷涂主辅设备和喷涂基体进行彻底清洁，并对基体待喷涂以外部位进行有效防护；

2)将纯度≥99.9％、粒度分布为20-40μm的高纯氧化钇陶瓷粉末加入三阳极等离子喷涂系统；

3)采用多轴机械手操纵三阳极等离子喷涂系统的喷枪，在基体待喷涂部位喷涂。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，喷涂工艺参数如下：等离子弧功率65-70kW，送粉速率100-150g/min，喷涂距离130-150mm，机械手移动速度0.8-1.2m/s，喷涂时间1-2分钟。