[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于：其包括一承载台板和以及设置在所 述承载台板附近的发光元件，所述承载台板至少具有一第一表面，所述第一表 面上至少具有一第一承载区域，所述第一承载区域用于承载通过一结合层结合 的一第一基板和一第二基板，所述第一基板位于所述第一表面和第二基板之 间，所述第一基板至少具有一第一边缘，所述第一承载区域位于所述第一边缘 的附近至少具有一开口，所述发光元件用于发出光束，所述光束用于通过所述 开口照射到所述第一边缘。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：所述发光元件设置 于所述承载台板的下方，所述光束由所述发光元件指向所述开口。

3.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：至少部分所述第一 边缘在所述第一表面上的投影落入所述开口在所述第一表面上的投影中。

4.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于：所述第一基板呈矩 形，其还具有第二边缘、第三边缘和第四边缘，所述第一边缘、第一边缘、第 三边缘和第四边缘依次首尾相接，共同构成所述第一基板的四周边缘，所述第 一承载区域位于所述第二边缘、第三边缘和第四边缘的附近分别至少具有一开 口，至少部分所述第二边缘、第三边缘和第四边缘在所述第一表面上的投影分 别落入所述开口在所述第一表面上的投影中。

5.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：所述第一表面具有 多个所述第一承载区域，每所述第一承载区域用于承载一结合的所述第一基板 和第二基板，多个所述第一承载区域呈矩阵排列于所述第一表面。

6.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：所述结合层为液体 胶层。

7.如权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于：所述第一边缘呈直 线型，所述开口呈长条形，所述长条形的长边与所述第一边缘平行设置。

8.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于：所述第一基板在所 述第一表面上的投影落入所述第二基板在所述第一表面上的投影中，所述第一 基板在垂直于所述第一边缘方向上的跨度小于所述第二基板在垂直于所述第 一边缘方向上的跨度。

9.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：所述开口邻接所述 第一边缘的一侧具有一第五边缘，所述第五边缘在所述第一表面上的投影与所 述第一边缘在所述第一表面上的投影重合。

10.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：所述第一基板为触 控面板，所述第二基板为盖板，所述基板处理装置还包括一吸附元件，所述吸 附元件将所述第一基板吸附于所述第一承载区域所在的第一表面上，所述光束 为紫外线固化光束。