[发明专利]处理单元、图像形成装置有效

专利信息
申请号: 201410547210.2 申请日: 2014-10-16
公开(公告)号: CN104570678B 公开(公告)日: 2019-05-21
发明(设计)人: 吉瀬允纪;中村贤二;山下刚司;池田保;丰田稔;松野泰英 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: G03G21/18 分类号: G03G21/18;G03G15/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张祥
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 处理 单元 图像 形成 装置
【权利要求书】:

1.一种处理单元,其特征在于包括:

像载置回转体,其在表面上载置显影剂像;

显影剂载置体,其将显影剂供给到所述像载置回转体上;

清洁构件,其除去残留在所述像载置回转体的表面上的显影剂;

抵接构件,其横跨所述像载置回转体上对应于沿着所述显影剂载置体的轴方向为状态变化的边界线的位置和对应于所述显影剂载置体上形成有调色剂的层的区域与不形成调色剂的层的区域的边界线的位置中的至少一方地,来被配置为与所述像载置回转体的表面抵接,并除去附着在所述像载置回转体上的异物,其中,所述抵接构件具有将对所述像载置回转体进行曝光的光写入机构以和所述像载置回转体借助于规定的间隔来进行位置确定的间隔构件的功能。

2.根据权利要求1所述的处理单元,其特征在于:

将沿着所述显影剂载置体的轴方向为状态不同的各部分分为第一状态部分和第二状态部分时,所述第一状态部分和第二状态部分的区别在于涂层的有无。

3.根据权利要求1所述的处理单元,其特征在于:

所述抵接构件在所述像载置回转体的回转方向上被配置在所述清洁构件的下游且所述显影剂载置体的上游处。

4.根据权利要求1所述的处理单元,其特征在于:

所述抵接构件在所述像载置回转体的回转方向上被配置在所述显影剂载置体的下游且所述清洁构件的上游处,并在所述像载置回转体的轴方向上被配置在形成图像的区域的外侧。

5.根据权利要求4所述的处理单元,其特征在于:

所述像载置回转体具有转印所载置的像的转印位置,并在所述像载置回转体的回转方向上,将所述抵接构件配置在所述显影剂载置体的下游且比所述转印位置更为上游处。

6.根据权利要求1至5中任何一项所述的处理单元,其特征在于:

所述抵接构件被配置为横跨所述像载置回转体上对应于沿着轴方向为状态变化的边界线的位置和对应于所述显影剂载置体上形成有调色剂的层的区域与不形成调色剂的层的区域的边界线的所述像载置回转体上的位置的双方。

7.根据权利要求1至5中任何一项所述的处理单元,其特征在于:

作为所述抵接构件的材料,采用的是聚甲醛(POM)。

8.根据权利要求1至5中任何一项所述的处理单元,其特征在于:

将所述抵接构件的所述像载置回转体的回转方向上游侧的表面朝着所述像载置回转体的回转方向向所述像载置回转体的轴方向外侧倾斜。

9.根据权利要求1至5中任何一项所述的处理单元,其特征在于:

所述像载置回转体被构成为能够在图像形成时的正向回转以及与其相反方向的逆向回转,

所述处理单元包括与所述像载置回转体的表面抵接并对所述像载置回转体逆向回转时的所述像载置回转体上的异物的通过进行阻止的阻止构件,并将所述阻止构件配置在所述抵接构件和所述像载置回转体的同一回转圆周上。

10.根据权利要求9所述的处理单元,其特征在于:

包括使得所述像载置回转体的表面带电的带电构件,

并且,所述阻止构件被配置在所述像载置回转体的正向回转方向上的所述带电构件的下游且所述抵接构件的上游处。

11.根据权利要求9所述的处理单元,其特征在于:

将所述抵接构件的所述像载置回转体的回转方向上游侧的表面朝着所述像载置回转体的回转方向向所述像载置回转体的轴方向外侧倾斜地配置,

并且,所述阻止构件以沿着所述像载置回转体的轴方向的面来接受所述抵接构件的异物。

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