[发明专利]一种煤炭地质填图方法在审
申请号: | 201410539896.0 | 申请日: | 2014-10-14 |
公开(公告)号: | CN104392017A | 公开(公告)日: | 2015-03-04 |
发明(设计)人: | 王佟;左明星;黄启月;刘承民;张晓芳 | 申请(专利权)人: | 王佟 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100024 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 煤炭 地质 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种地质填图方法,尤其是一种煤炭地质填图方法。
背景技术
煤田地质填图是煤炭地质勘查的基础工作,其目的就是通过对基岩天然露头和工程地质点等进行系统采集、编录的地面地质观测,综合研究地层层序、岩石、构造、煤层赋存特征及地表地质规律,编制反映煤田地质特征、煤层赋存规律的有关地质图件,为煤炭地质勘查相应阶段提供基础地面地质资料。
现有煤炭地质填图顺序:收集区域地形图→室内资料收集→野外踏勘→实测剖面、槽探施工编录→填图→报告编制。
以往根据不同勘探阶段选择相应比例尺的地形图,在野外手持地形图与自然界的实际地貌对照,在图上确定地质点,在用专门的纸质记录本描述地质现象,手工绘制素描图,无论工作精度和野外工作量都很大,遇到恶劣天气状况时,还无法开展工作。具有地质工作周期长,人工量大,工作效率低,填图成果不直观,主要利用平面图与剖面图进行组合表达,掩盖了储层的层内非均质性,存在一定的局限性。
目前,随着信息化技术的发展,采用计算机技术完全能够进行立体可视地质填图,一是野外不要携带地形图、记录本等,二是野外地质点素描既可以直接照相生成,也可以从卫星图片经过三维处理的立体图上截一块目标剖面在人工加注地质线条。三是利用ALOS卫星影像图能清楚地判读出滑坡、崩塌等地质现象,在影像图上确定位置后,能快速进行观测。从而克服了传统煤炭地质填图的方法的缺陷。
发明内容
本发明提供了一种使用效果好、测量精度高的煤炭地质填图方法。
实现本发明目的的一种煤炭地质填图方法,包括如下步骤:
(1)收集区域影像图片:按照煤炭勘探阶段要求,选用一定比例尺精度收集数字化和立体化的航空、卫星影像资料图片,直接装入便携式计算机;
(2)室内资料收集:按照设计要求的一定比例尺精度收集地形图,经过数字化处理,或直接收集数字化地形图和数字化的立体卫片叠置,野外根据图件大小和填图要求,十分方便识别地形地物;
(3)野外直接填图:直接在计算机上定点,描述岩石、描述构造现象;采用追索法、穿越法,应详细划分地层,建立正确的地层层序,确定填图单元;
(4)资料计算机输入:在岩层露头、煤层露头、构造、老窑地表出露处,用高精度GPS定点,统一编号,把岩石特征、构造特征、老窑分布的原始资料,直接编辑到计算机中,并建库隐藏,需要时直接点击显示;
(5)地质图件生成:根据地质填图地表观测点的平面坐标(X,Y)、高程(Z)的地质信息点数据,对地质填图区的含煤地层、煤层发育、构造等特征进行可视、直观的演示;通过数据内插可生成与国家标准规范相应的基本比例尺地形地质图、区域地质图、实测剖面图件;
(6)报告编制。
本发明的一种煤炭地质填图方法的有益效果如下:
本发明的一种煤炭地质填图方法,可靠性好,测量精度高,使用效果好,设计合理,操作简便,已形成了一套可行的、三维可视的、效果好的新型一种煤炭地质填图方法,便于推广使用。
具体实施方式
一种煤炭地质填图方法,包括如下步骤:
(1)收集区域影像图片:按照煤炭勘探阶段要求,选用一定比例尺精度收集数字化和立体化的航空、卫星影像资料图片,直接装入便携式计算机;
(2)室内资料收集:按照设计要求的一定比例尺精度收集地形图,经过数字化处理,或直接收集数字化地形图和数字化的立体卫片叠置,野外根据图件大小和填图要求,十分方便识别地形地物;
(3)野外直接填图:直接在计算机上定点,描述岩石、描述构造现象;采用追索法、穿越法,应详细划分地层,建立正确的地层层序,确定填图单元;
(4)资料计算机输入:在岩层露头、煤层露头、构造、老窑地表出露处,用高精度GPS定点,统一编号,把岩石特征、构造特征、老窑分布的原始资料,直接编辑到计算机中,并建库隐藏,需要时直接点击显示;
(5)地质图件生成:根据地质填图地表观测点的平面坐标(X,Y)、高程(Z)的地质信息点数据,对地质填图区的含煤地层、煤层发育、构造等特征进行可视、直观的演示;通过数据内插可生成与国家标准规范相应的基本比例尺地形地质图、区域地质图、实测剖面图件;
(6)报告编制。
上面所述的实施例仅仅是对本发明的优选实施方式进行描述,并非对本发明的范围进行限定,在不脱离本发明设计精神前提下,本领域普通工程技术人员对本发明技术方案做出的各种变形和改进,均应落入本发明的权利要求书确定的保护范围内。
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