[发明专利]一种星体表面尘埃累积质量监测方法

权利要求书

1.一种星体表面尘埃累积质量监测方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1，设计尘埃监测仪；

尘埃监测仪包括光源(1)、光敏感器(2)、盖板(3)和用于改变光路的镜面(4)，尘埃监测仪探头设有向上开口的空腔，防尘盖设置在空腔上方，镜面设置在腔底，光源位于空腔侧面，光敏感器位于光路的反射和/或折射光路上；

步骤2，在地面上采用尘埃监测仪进行尘埃质量-光敏感信号曲线标定；

步骤2.1，将步骤1的尘埃监测仪放置在真空环境中，并位于扬尘装置的下方；

步骤2.2，打开盖板(3)，并启动扬尘装置模拟星体表面尘埃沉降，在镜面上均匀沉积尘埃，然后关闭盖板，开启光源、光敏感器，测量当前光敏感器信号相比于无尘情况下的信号变化，测量镜面上沉积的尘埃质量；

步骤2.3，重复步骤2.2，得到镜面上沉积尘埃质量与光敏感器信号变化量之间的关系，并进行曲线拟合，获得标定曲线；

步骤3，进行星体测量；

步骤3.1，探测器携带尘埃监测仪着陆星体表面，展开尘埃监测仪，调节其镜面至水平位置；

步骤3.2，尘埃监测仪开机，进行自检和测量光敏感器信号的初值；

步骤3.3，打开盖板，在自然环境下沉积尘埃；一定时间后，闭合盖板，测量光敏感器信号相对于所述初值的变化量，代入步骤2获得的标定曲线中得到尘埃累积质量；

步骤3.4，重复步骤3.3直至任务结束。

2.如权利要求1所述的星体表面尘埃累积质量监测方法，其特征在于，所述光源为半导体激光器或发光二极管。

3.如权利要求1所述的星体表面尘埃累积质量监测方法，其特征在于，所述光敏感器为光电二极管、光电三极管、光敏电阻、CCD、CMOS或光电池。

4.如权利要求1所述的星体表面尘埃累积质量监测方法，其特征在于，所述镜面为高反射镜，反射率大于80％；光敏感器位于光源光线的反射光路上。

5.如权利要求1所述的星体表面尘埃累积质量监测方法，其特征在于，所述镜面为高透射镜，透射率大于80％，光敏感器位于光源光线的透射光路上。

6.如权利要求1所述的星体表面尘埃累积质量监测方法，其特征在于，所述镜面为透射率与反射率相当的折反镜，透射率与反射率之比在0.6～1.5之间，具有两个光敏感器，一个位于电源光线的反射路线上，另一个位于电源光线的透射路线上，分别测量反射光路光敏感器信号变化和透射光路光敏感器信号变化，然后将相同尘埃质量下的反射光路和透射光路的光敏感器信号取平均值，绘制尘埃质量-光敏感器信号平均值关系曲线，该关系曲线即为标定曲线。

7.如权利要求4所述的星体表面尘埃累积质量监测方法，其特征在于，所述光源入射角为30～70°。

8.如权利要求5或6所述的星体表面尘埃累积质量监测方法，其特征在于，所述光源入射角小于45°。

9.如权利要求1～6任意一项所述的星体表面尘埃累积质量监测方法，其特征在于，在空腔侧面内壁内设有光路传输通道，所述光源和光敏感器位于光路传输通道内，光源处的光路传输通道用于光的准直，光敏感器处的光路传输通道用于光的准直和吸收杂散反射光。

10.如权利要求1～6任意一项所述的星体表面尘埃累积质量监测方法，其特征在于，步骤3.1中，设置镜面与水平面的误差小于±10°。