[发明专利]涂布装置及涂布方法

权利要求书

1.一种涂布装置，其特征在于，在基板上形成未涂布流动性材料的非涂布区域，所述涂布装置包括：

保持部，保持基板；

喷出部，朝向由所述保持部保持的所述基板的主面喷出所述流动性材料；

移动机构，使所述喷出部相对于由所述保持部保持的所述基板相对地移动；以及

掩模机构，以与由所述保持部保持的所述基板的主面中的和所述非涂布区域对应的部分相向的方式来配备掩模部，并且使所述掩模部配合所述基板在与平行所述主面的主扫描方向交叉的副扫描方向上的移动而移动；

所述移动机构包括：

喷出部移动机构，使所述喷出部在与由所述保持部保持的所述基板的主面平行的所述主扫描方向移动；以及

保持部移动机构，使保持有所述基板的所述保持部在与所述主扫描方向交叉的所述副扫描方向上移动；并且

所述掩模机构包括：

带状的掩模带；

送出部，将所述掩模带送出；

卷绕部，将从所述送出部送出的所述掩模带卷绕；以及

抵压部，将从所述送出部送出的所述掩模带抵压到所述基板；并且

所述送出部配合由所述移动机构的所述保持部移动机构进行的所述基板在所述副扫描方向上的移动，而在所述副扫描方向上将所述掩模带送出。

2.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，所述送出部以所述掩模带的移动方向及移动量与所述基板的移动方向及移动量一致的方式，而将所述掩模带送出。

3.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，所述抵压部一边使所述掩模带的宽度方向端部从所述基板浮起，一边将所述掩模带抵压到所述基板。

4.根据权利要求3所述的涂布装置，其特征在于，所述抵压部在与所述掩模带的宽度方向两端部中的至少一个端部对应的部分，具有直径减小的辊。

5.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，所述掩模机构以从所述基板的端部向外侧伸出的方式配备所述掩模部。

6.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，所述掩模机构具有多个所述掩模部。

7.根据权利要求6所述的涂布装置，其特征在于，所述掩模机构还包括调整机构，所述调整机构对多个所述掩模部的间隔进行调整。

8.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，还包括清洗机构，所述清洗机构对所述掩模部进行清洗。

9.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，所述流动性材料为有机电致发光液或者空穴传输液。

10.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，还包括磁场产生部，所述磁场产生部通过产生磁场而使所述掩模部吸附于所述基板。

11.根据权利要求10所述的涂布装置，其特征在于：

所述移动机构使所述喷出部在与所述基板的主面平行的所述主扫描方向及与所述主扫描方向交叉的所述副扫描方向上相对地移动，并且所述移动机构通过使所述保持部移动，而使所述基板沿一个方向移动，

所述送出部以所述掩模带的移动方向及移动量与所述基板的移动方向及移动量一致的方式，将所述掩模带送出，

所述保持部包括平台，所述平台具有保持所述基板的平面，

所述磁场产生部包括磁性体，所述磁性体在所述平台上，沿着所述副扫描方向配置着多个。

12.根据权利要求10所述的涂布装置，其特征在于，还包括摄影部，所述摄影部在所述基板的主面中的除用作元件的有效区域外的区域，对从所述喷出部喷出的所述流动性材料的涂布图案进行摄影。

13.根据权利要求12所述的涂布装置，其特征在于，所述摄影部对喷出到所述掩模部上的所述流动性材料的涂布图案进行摄影。

14.根据权利要求13所述的涂布装置，其特征在于，在所述掩模部的表面，形成着保持所述涂布图案的被覆部。