[发明专利]经表面处理的形状记忆材料及其制造方法在审
申请号: | 201410366096.3 | 申请日: | 2006-01-11 |
公开(公告)号: | CN104294233A | 公开(公告)日: | 2015-01-21 |
发明(设计)人: | 张文智;杨伟国;吕维加;潘伟业;朱剑豪 | 申请(专利权)人: | 港大科桥有限公司;香港城市大学 |
主分类号: | C23C14/48 | 分类号: | C23C14/48;C23C8/36;C23C4/12;C23C16/44;A61L27/06;A61L27/50 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李进 |
地址: | 中国香港*** | 国省代码: | 中国香港;81 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 处理 形状 记忆 材料 及其 制造 方法 | ||
1.一种改变镍钛合金部分表面组成以增加生物相容性的方法,该方法包括通过等离子浸没离子注入和沉积在所述镍钛合金部分的表面上注入氮或氧,其中对于等离子浸没离子注入和沉积,该材料的表面处理所用的入射物的能量为500eV至100keV。
2.权利要求1的方法,其中所述镍钛合金是形状记忆合金,且含有20%至80%的镍和80%至20%的钛。
3.权利要求1的方法,其中表面注入元素增强所述合金的机械性能。
4.权利要求3的方法,其中所述表面机械性能包括亲水性、耐腐蚀性和耐磨性。
5.权利要求2的方法,其中所述镍钛合金的生物活性被减小或增强。
6.权利要求2的方法,其中所述等离子浸没离子注入和沉积或者相关的基于离子束和等离子的技术,例如等离子增强的气相沉积法(PECVD)、物理气相沉积法(VPD)和化学气相沉积法(CVD),减少Ni离子从所述形状记忆材料的基底释放。
7.权利要求2的方法,其中所述材料是用于整形外科、泌尿科、血管外科、肝胆外科或食管外科的生物材料。
8.权利要求6的方法,其中用于所述材料表面处理的入射物的能量如下:注入和沉积法为500eV到1000eV。
9.权利要求6的方法,其中使用直流电,参数为无限脉冲持续时间的0Hz重复到5000Hz。
10.权利要求2的方法,其中注入的材料为氮源或氧源。
11.权利要求10的方法,其中所述氮源为氮气。
12.权利要求10的方法,其中所述氧源为氧气。
13.根据权利要求1的方法制造出的整形外科植入物。
14.根据权利要求1的方法制造出的血管植入物。
15.根据权利要求1的方法制造出的食管植入物。
16.权利要求9的方法,其中所述元素是气体形式、液体形式、固体形式或其组合物。
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