[发明专利]用于沉积的掩模、掩模组件和形成掩模组件的方法在审
| 申请号: | 201410361099.8 | 申请日: | 2014-07-25 |
| 公开(公告)号: | CN104342616A | 公开(公告)日: | 2015-02-11 |
| 发明(设计)人: | 高政佑 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C16/04;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 尹淑梅;韩芳 |
| 地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 沉积 模组 形成 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种掩模和一种掩模组件。更具体地讲,本发明涉及一种用于沉积有机层的掩模和一种掩模组件。
背景技术
通常,作为平板显示器的代表性示例,具有有机发光显示器、液晶显示器、等离子体显示面板等。
在这些中,为了制造有机发光显示器,形成具有特定图案的电极、有机发射层等。可以通过例如使用掩模组件的沉积方法来执行用于形成电极和有机发射层等的方法。
更具体地讲,有机发光显示器包括像素和有机发光二极管,像素是在基底上以矩阵形式排列的显示图像的基本单元,有机发光二极管具有与有机发射层顺序地设置的阳极、第一电极、阴极和第二电极,每个有机发射层针对每个像素发射诸如红色、绿色、蓝色或白色的带颜色的光。有机发射层的有机材料易受湿气、氧等的侵害,使得在形成有机发射层的工艺过程中以及在形成有机发射层之后采用将有机材料与湿气彻底隔离。因此,利用普通的光刻工艺执行图案化会是困难的。因此,使用掩模形成有机发射层,在掩模中限定了用于使沉积材料仅穿过与掩模的每个图案对应的部分的图案开口。
发明内容
本发明的一个或更多个示例性实施例提供一种用于沉积的掩模和包括所述用于沉积的掩模的掩模组件,所述用于沉积的掩模控制由对掩模施加的张力而引起的掩模的有效图案的变形。
示例性实施例提供了一种用于沉积的掩模,所述掩模包括:掩模主体,在第一方向上延伸并具有第一厚度,包括在第一方向上彼此相对并被框架支撑的端部,同时张力在第一方向上被施加到掩模;以及多个有效图案,在掩模主体的中心区域中在第一方向上彼此分离,具有小于第一厚度的第二厚度。
所述掩模还可以包括第一虚设图案,位于所述多个有效图案中的在第一方向上的最外面的有效图案和掩模主体的端部之间,并且具有介于第一厚度和第二厚度之间的第三厚度。
所述掩模还可以包括多个第一虚设图案,位于所述多个有效图案中的在第一方向上的最外面的有效图案和掩模主体的端部之间,并且具有介于第一厚度和第二厚度之间的第三厚度。
多个有效开口可以限定在所述多个有效图案中的一个有效图案中,多个第一虚设开口可以限定在第一虚设图案中,相邻的有效开口之间的第一距离比相邻的第一虚设开口之间的第二距离小。
所述掩模还可以包括位于所述多个有效图案中的相邻的有效图案之间的第二虚设图案。
第二虚设图案可以具有第二厚度。
第二虚设图案可以具有第三厚度。
所述掩模还可以包括分别位于来自所述多个有效图案中的相邻的有效图案之间的多个第二虚设图案。
多个有效开口可以限定在所述多个有效图案中的有效图案中,多个第二虚设开口可以限定在第二虚设图案中,相邻的有效开口之间的第一距离比相邻的第二虚设开口之间的第三距离小。
另一个示例性实施例提供了一种掩模组件,所述掩模组件包括:框架,开口限定在框架中;以及至少一个掩模,当在第一方向上彼此相对的掩模端部被框架支撑,同时在第一方向上对掩模施加张力时,所述多个有效图案与框架中的开口叠置。
所述掩模组件还可以包括在与第一方向交叉的第二方向上布置的多个掩模,其中,所述多个掩模的所述多个有效图案与框架中的开口叠置。
根据一个或更多个示例性实施例,提供了用于沉积的掩模和包括所述用于沉积的掩模的掩模组件,所述用于沉积的掩模控制由于对掩模施加张力而引起的掩模的有效图案的变形。掩模主体具有比由掩模的有效图案限定的厚度大的厚度,所以改善了掩模主体的刚度。第一虚设图案设置在最外面的有效图案和掩模主体的在掩模的第一方向上的端部之间,第二虚设图案设置在相邻的有效图案之间,每个虚设图案具有比掩模主体的厚度小的厚度,所以第一虚设图案和/或第二虚设图案分散或吸收了施加到有效图案的张力,由于在掩模的第一方向上对掩模施加的张力而引起的有效图案的变形得到控制。
附图说明
通过参照附图进一步详细地描述本公开的示例性实施例,本公开的上述和其他特征将变得更加清楚,在附图中:
图1是根据本发明的掩模组件的示例性实施例的分解透视图;
图2是图1中的掩模组件的俯视图;
图3是根据本发明的包括在掩模组件中的掩模的示例性实施例的俯视图;
图4是对于图3的线IV-IV的剖视图;
图5是根据本发明的掩模的另一示例性实施例的俯视图;
图6是对于图5的线VI-VI的剖视图;
图7是根据本发明的掩模的又一示例性实施例的俯视图。
具体实施方式
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410361099.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:溅射装置
- 下一篇:甲基营养型芽孢杆菌及其在防治禾谷镰刀菌方面的应用
- 同类专利
- 专利分类





