[发明专利]一种上流式反应器气液分配盘及其段间补氢装置

权利要求书

1.一种上流式反应器气液分配盘，其特征在于，所述气液分配盘包括布气室、设置在布气室侧面的气体入口管以及在布气室内部均匀设置的气体上升管和液体上升管，所述气体上升管分布在所述液体上升管周围；所述布气室的底部与流体分布板相连，所述流体分布板具有均匀的多个孔部；所述孔部只与所述液体上升管连通。

2.根据权利要求1所述的气液分配盘，其特征在于，所述气体上升管的上部侧面均匀设置有出气口。

3.根据权利要求1所述的气液分配盘，其特征在于，所述液体上升管的上部侧面均匀设置有出液口。

4.根据权利要求2所述的气液分配盘，其特征在于，所述出气口是4～8条，狭缝宽1～3mm，高10～30mm。

5.根据权利要求3所述的气液分配盘，其特征在于，所述出液口是4～8条狭缝，狭缝宽3～6mm，高10～30mm。

6.根据权利要求1所述的气液分配盘，其特征在于，所述液体上升管上端口封闭，总高度为300～600mm，内径为10～50mm，数量为10～20个/m²。

7.根据权利要求1所述的气液分配盘，其特征在于，所述气体上升管上端口封闭，总高度为50～100mm，内径为10～20mm,数量为100～200个/m²。

8.一种段间补氢装置，其特征在于，所述段间补氢装置具有权利要求1～7任一所述的上流式反应器气液分配盘；所述段间补氢装置的底部是液体入口管，所述液体入口管与所述流体分布板之间具有液体上升区域；所述气液分配盘的上部设有催化剂床层。

9.根据权利要求8所述的段间补氢装置，其特征在于，所述催化剂床层与所述气液分配盘上下交错设置有多个。

10.根据权利要求8所述的段间补氢装置，其特征在于，所述气液分配盘的直径略小于所述段间补氢装置的内径，所述气液分配盘的高度为0.3～1.0m。