[发明专利]一种高性能存储器化学抛光物在审
申请号: | 201410296799.3 | 申请日: | 2014-06-28 |
公开(公告)号: | CN104073172A | 公开(公告)日: | 2014-10-01 |
发明(设计)人: | 范向奎 | 申请(专利权)人: | 青岛宝泰新能源科技有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02 |
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地址: | 266000 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 性能 存储器 化学抛光 | ||
技术领域
本发明涉及一种高性能存储器化学抛光物。
背景技术
对增加内存或硬盘容量的需求以及内存或硬盘小型化的趋势(因为计算机设备中需要更小磁盘驱动器)持续不断,强调内存或硬盘片制造方法的重要性,包括这类盘片的平坦化或抛光,以确保性能最佳。尽管存在几种用于与半导体装置制造相关的化学机械抛光(CMP)组合物及方法,但是几乎没有常规的 CMP 方法或商购的 CMP 组合物非常适于内存或硬盘片的平坦化或抛光。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种高性能存储器化学抛光物。
为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:
一种高性能存储器化学抛光物,其特征在于,包括下列重量份数的物质:表面活性剂1-3份,有机添加剂2-5份,纳米碳酸钙9-10份,二氯甲烷7-13份,苯甲醇5-10份,正戊烷1-9份,三氯甲烷1-3份,多聚甲醛2-3份,乙醛1-3份,乙二醛3-9份,乙酸乙酯份,助溶剂1份,润湿剂1份,甲基三乙氧基硅烷14-19份,钛酸酯偶联剂1-2份,纳米银0.5份。
本发明的有益效果是:制备简单,抛光效果明显,性能稳定。
具体实施方式
实施例1
一种高性能存储器化学抛光物,其特征在于,包括下列重量份数的物质:表面活性剂1-3份,有机添加剂2-5份,纳米碳酸钙9-10份,二氯甲烷7-13份,苯甲醇5-10份,正戊烷1-9份,三氯甲烷1-3份,多聚甲醛2-3份,乙醛1-3份,乙二醛3-9份,乙酸乙酯份,助溶剂1份,润湿剂1份,甲基三乙氧基硅烷14-19份,钛酸酯偶联剂1-2份,纳米银0.5份。
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