[发明专利]易潮解晶体的磁流变抛光方法有效
申请号: | 201410288335.8 | 申请日: | 2014-06-25 |
公开(公告)号: | CN104084849A | 公开(公告)日: | 2014-10-08 |
发明(设计)人: | 戴一帆;胡皓;陈少山;石峰;彭小强;关朝亮 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军国防科学技术大学 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;C09G1/02 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所 43008 | 代理人: | 赵洪 |
地址: | 410073 湖南省长沙市砚瓦池正街47*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 潮解 晶体 流变 抛光 方法 | ||
1. 一种易潮解晶体的磁流变抛光方法,包括以下步骤:
(1)配制非水基磁流变抛光液,所述非水基磁流变抛光液包括烷氧基醇、磁敏颗粒、表面活性剂和去离子水;
(2)将非水基磁流变抛光液加入磁流变机床循环系统中,对待加工的易潮解晶体进行第一次磁流变抛光加工,经芳香烃清洗后,再进行第二次磁流变抛光加工;
(3)第二次磁流变抛光加工完成后,迅速采用芳香烃对所得易潮解晶体进行清洗,完成易潮解晶体的磁流变抛光处理。
2. 根据权利要求1所述的磁流变抛光方法,其特征在于,所述步骤(2)中,所述第一次磁流变抛光加工的工艺参数为:抛光轮与待加工易潮解晶体的相对速度为1m/s~3m/s,加工区域的最大磁场强度为210mT~230mT,压深为0.1mm~0.3mm,非水基磁流变抛光液的流量为100L/h~130L/h。
3. 根据权利要求1所述的磁流变抛光方法,其特征在于,所述步骤(2)中,所述第二次磁流变抛光加工的工艺参数为:抛光轮与待加工易潮解晶体的相对速度为1m/s~3m/s,加工区域的最大磁场强度为210mT~230mT,压深为0.1mm~0.3mm,非水基磁流变抛光液的流量为100L/h~130L/h。
4. 根据权利要求1~3中任一项所述的磁流变抛光方法,其特征在于,所述非水基磁流变抛光液由以下方法配制得到:
(a)根据非水基磁流变抛光液的配方,分别称取烷氧基醇、磁敏颗粒、表面活性剂和去离子水,按质量分数计,烷氧基醇为30%~60%,磁敏颗粒为30%~60%,表面活性剂为3%~8%,去离子水为3%~6%;
(b)将烷氧基醇置于一容器罐中,先加热至65℃~75℃并一直保持在该温度,然后加入表面活性剂,经混合形成复合液,再向复合液中加入磁敏颗粒,经搅拌后,得到混合液;
(c)将混合液倒入球磨罐中,以150r/min~250r/min的转速球磨2h~5h,然后加入去离子水,再以50r/min~100r/min的转速球磨2h~5h,得到非水基磁流变抛光液。
5. 根据权利要求4所述的磁流变抛光方法,其特征在于,所述非水基磁流变抛光液在20℃时的粘度为0.35Pa·s~0.55Pa·s。
6. 根据权利要求4所述的磁流变抛光方法,其特征在于,所述烷氧基醇包括二乙二醇单丁醚或乙二醇单乙醚。
7. 根据权利要求4所述的磁流变抛光方法,其特征在于,所述磁敏颗粒为羰基铁粉;所述羰基铁粉的粒度为1μm~10μm,含Fe纯度大于97%,相对品质因素大于1.75,有效磁导率大于3。
8. 根据权利要求4所述的磁流变抛光方法,其特征在于,所述表面活性剂为磷酸脂、脂肪酸、司班、吐温中的一种或多种。
9. 根据权利要求8所述的磁流变抛光方法,其特征在于,所述表面活性剂为脂肪酸、司班和吐温的混合物,所述脂肪酸为硬脂酸;所述硬脂酸、司班、吐温的质量比为1∶1∶1。
10. 根据权利要求4所述的磁流变抛光方法,其特征在于,所述步骤(b)中,所述搅拌的速度为20r/min~60r/min,所述搅拌的时间为10min~30min;所述步骤(c)中,所述球磨罐中的混合液与钢球的质量比为8~12∶1,所述钢球的直径为2mm~4mm。
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