[发明专利]一种环抛机抛光盘螺旋型冷却结构

说明书

技术领域

本发明涉及超精密制造装备技术领域，具体涉及一种环抛机抛光盘螺旋型冷却结构。

背景技术

环抛技术主要用来进行平面光学元件的超精密抛光，直接决定光学元件的加工精度。在光学元件加工过程中，研磨盘的面形对光学元件的面形精度非常重要，由于抛光作用会引起抛光盘局部温度变化从而导致研磨盘面形的变化，影响光学元件的抛光精度，为了实现光学元件的超精密抛光，需要控制抛光盘表面的温度恒定。

目前主要是通过控制抛光液的温度来控制抛光盘温度的变化，在实际使用过程中，由于抛光盘的局部温度变化仍然较大。 

发明内容

有鉴于现有技术的上述缺陷，本发明提供一种环抛机抛光盘螺旋型冷却结构。

为实现上述目的，本发明提供了一种环抛机抛光盘螺旋型冷却结构，包括抛光盘，冷却水循环系统，抛光盘、研磨盘和转台连接在一起，抛光盘上端面加工有螺旋形冷却水管槽，安装有冷却水循环系统，研磨盘下端面与抛光盘上端面粘接在一起，冷却水循环系统可通过冷却水实现抛光过程中研磨盘的恒温控制，让研磨盘保持较好的面形，抛光盘与转台之间通过螺纹固定，转台带动抛光盘旋转，螺旋冷却水管路中的冷却水在离心力的作用下能实现快速循环。

作为优选，所述的冷却管为螺旋型。 

作为优选，所述的抛光盘冷却管道安装在抛光盘与转台中间。

作为优选，所述的抛光盘与转台上台面之间是粘接的。 

作为优选，所述的冷却管材料采用的黄铜。

本发明具有以下有益效果：

1、冷却管采用螺旋型布置，转台旋转过程中的离心力有利于冷却水的很好循环；

2、通过在抛光盘与研磨盘之间增加冷却循环系统，能更好实现研磨盘及抛光盘的恒温控制。

以下将结合附图对本发明的构思、具体结构及产生的技术效果作进一步说明，以充分地了解本发明的目的、特征和效果。

附图说明

图1为本发明的结构示意图；

图2为本发明的抛光盘的冷却水槽结构图。

具体实施方式

参照图1-2，本具体实施方式采用以下技术方案：一种环抛机抛光盘螺旋型冷却结构，包括旋转接头1、转台2、抛光盘3、冷却水循环系统4和研磨盘5，转台2上安装有抛光盘3，抛光盘3上粘接有研磨盘5，抛光盘3和研磨盘5之间设置有螺旋形的冷却水循环系统4，冷却水循环系统4的冷却管路穿设在转台2、抛光盘3中间并与旋转接头1连接。

值得注意的是，所述的抛光盘3上设置有螺旋形冷却水槽，螺旋形冷却水槽内安装有冷却水循环系统4的螺旋形冷却铜管。

本实施例中，所述的研磨盘5为锡盘，所述的研磨盘5和抛光盘3之间通过粘接剂固定，转台2采用气体静压转台，减少转台旋转过程中发热。

此外，所述的旋转接头1是保证在抛光盘旋转过程中冷却水的正常输入和输出。

本具体实施方式采用“螺旋型”冷却水循环系统即上述结构，通过冷却水的离心力作用使得冷却水迅速实现循环回路，从而达到对抛光盘的快速冷却作用，并通过旋转接头实现冷却水的快速循环。

本发明在实际运行中，冷却管采用螺旋型布置，转台旋转过程中的离心力有利于冷却水的很好循环；其次，通过在抛光盘与研磨盘之间增加冷却循环系统，能更好实现研磨盘及抛光盘的恒温控制。

以上详细描述了本发明的较佳具体实施例。应当理解，本领域的普通技术人员无需创造性劳动就可以根据本发明的构思作出诸多修改和变化。因此，凡本技术领域中技术人员依本发明的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案，皆应在由权利要求书所确定的保护范围内。