[发明专利]一种显影方法及显影装置

说明书

技术领域

本发明涉及显影技术领域，尤其涉及一种显影方法及显影装置。

背景技术

在TFT-LCD(薄膜场效应晶体管液晶显示器)生产过程中，涂布在玻璃基板上的光刻胶经曝光后需要进行显影才能得到需要的光刻图形。

如图1所示，现有技术中，应用于高世代产线的一种显影方法，玻璃基板2以倾角θ沿水平放置的显影机台1运动，玻璃基板2与显影机台1之间的倾角θ始终保持不变，多个喷嘴3均匀地固定于平板形的喷嘴架4上，喷嘴架4设置于玻璃基板2的上方，且喷嘴架4与玻璃基板2平行。显影过程中，显影液被喷嘴3喷洒到玻璃基板2上，其中喷洒到玻璃基板2的上侧边即a侧边的显影液与光刻胶发生化学反应后浓度降低，且浓度降低的显影液向玻璃基板2的下侧边即b侧边流动，使得直接喷洒到玻璃基板2的b侧边的显影液被稀释，从而导致与玻璃基板2的b侧边的光刻胶发生化学反应的显影液浓度降低。采用该种显影方法制备的光刻图形的线宽不均匀，由玻璃基板2的a侧边到其b侧边，光刻图形的线宽逐渐变宽。对于线宽均匀性要求较高的膜层，就需一种均匀性更好的显影方法；此外，目前的显影方法不能实现局部调节线宽显影。

发明内容

本发明的目的是提供一种显影方法及显影装置，可以提高显影之后获得的光刻图形的线宽均匀性，实现局部调节线宽显影。

本发明所提供的技术方案如下：

一种显影方法，包括如下步骤：

控制基板相对于显影机台向第一方向倾斜第一角度θ₁，使所述基板的第一侧边向上、与所述第一侧边位置相对的第二侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第一平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t₁；

控制基板相对于显影机台向第二方向倾斜第二角度θ₂，使所述基板的与所述第一侧边相邻的第三侧边向上、与所述第三侧边位置相对的第四侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第二平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t₂；

控制基板相对于显影机台向第三方向倾斜第三角度θ₃，使所述基板的所述第二侧边向上、与所述第二侧边位置相对的所述第一侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第三平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t₃；

控制基板相对于显影机台向第四方向倾斜第四角度θ₄，使所述基板的所述第四侧边向上、与所述第四侧边位置相对的所述第三侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第四平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t₄。

进一步的，所述方法还包括：

重复所述步骤“控制基板相对于显影机台向第一方向倾斜第一角度θ₁，使所述基板的第一侧边向上、与所述第一侧边位置相对的第二侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第一平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t₁；

控制基板相对于显影机台向第二方向倾斜第二角度θ₂，使所述基板的与所述第一侧边相邻的第三侧边向上、与所述第三侧边位置相对的第四侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第二平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t₂；

控制基板相对于显影机台向第三方向倾斜第三角度θ₃，使所述基板的所述第二侧边向上、与所述第二侧边位置相对的所述第一侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第三平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t₃；

控制基板相对于显影机台向第四方向倾斜第四角度θ₄，使所述基板的所述第四侧边向上、与所述第四侧边位置相对的所述第三侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第四平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t₄。”。