[发明专利]一种显影方法及显影装置在审
| 申请号： | 201410258414.4 | 申请日： | 2014-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN104062857A | 公开（公告）日： | 2014-09-24 |
| 发明（设计）人： | 冯贺;吴洪江;王耸;杨同华;董明 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;黄灿 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 显影 方法 装置 | ||
1.一种显影方法，其特征在于，包括如下步骤：
控制基板相对于显影机台向第一方向倾斜第一角度θ1，使所述基板的第一侧边向上、与所述第一侧边位置相对的第二侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第一平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t1；
控制基板相对于显影机台向第二方向倾斜第二角度θ2，使所述基板的与所述第一侧边相邻的第三侧边向上、与所述第三侧边位置相对的第四侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第二平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t2；
控制基板相对于显影机台向第三方向倾斜第三角度θ3，使所述基板的所述第二侧边向上、与所述第二侧边位置相对的所述第一侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第三平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t3；
控制基板相对于显影机台向第四方向倾斜第四角度θ4，使所述基板的所述第四侧边向上、与所述第四侧边位置相对的所述第三侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第四平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t4。
2.根据权利要求1所述的显影方法，其特征在于，所述方法还包括：
重复所述步骤“控制基板相对于显影机台向第一方向倾斜第一角度θ1，使所述基板的第一侧边向上、与所述第一侧边位置相对的第二侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第一平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t1；
控制基板相对于显影机台向第二方向倾斜第二角度θ2，使所述基板的与所述第一侧边相邻的第三侧边向上、与所述第三侧边位置相对的第四侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第二平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t2；
控制基板相对于显影机台向第三方向倾斜第三角度θ3，使所述基板的所述第二侧边向上、与所述第二侧边位置相对的所述第一侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第三平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t3；
控制基板相对于显影机台向第四方向倾斜第四角度θ4，使所述基板的所述第四侧边向上、与所述第四侧边位置相对的所述第三侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第四平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t4。”。
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