[发明专利]硫酸氢盐离子液体中直接电沉积晶态铬镀层的方法无效
| 申请号： | 201410243812.9 | 申请日： | 2014-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN103993337A | 公开（公告）日： | 2014-08-20 |
| 发明（设计）人： | 何新快;李晨;吴璐烨 | 申请（专利权）人： | 湖南工业大学 |
| 主分类号： | C25D3/10 | 分类号： | C25D3/10;C25D3/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 412007 湖南省株洲市*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 硫酸 离子 液体 直接 沉积 晶态 镀层 方法 | ||
【权利要求书】：
1.1-乙基-3-甲基咪唑硫酸氢离子液体直接电沉积晶态铬镀层的方法，包括离子液体镀液的配制、电沉积技术工艺。
2.镀液组成为：Cr3+ 0.05-1.1 mol·L-1，溶剂为1-乙基-3-甲基咪唑硫酸氢离子液体([EMIM]HSO4)。
3.1-乙基-3-甲基咪唑硫酸氢离子液体镀液的配制其特征在于：配制镀液前，无水CrCl3或CrCl3·6H2O或Cr2(SO4)3及Cr2(SO4)3·6H2O需在40-100℃温度下干燥至恒重，配制所得溶液需静置反应3-75 h小时后即得待用的离子液体镀液。
4.电沉积技术工艺：被镀件为阴极，阳极为不溶性电极，镀液温度不高于100℃, 阴极电流密度最大可达25.0 mA·cm-2，极间距 0.5-70 cm。
5.[EMIM]HSO4离子液体电沉积金属铬的方法，其特征在于：阴极为经过常规预处理的金属或金属合金（如铜及铜合金、碳钢、不锈钢、锌及锌合金）等。
6.[EMIM]HSO4离子液体电沉积金属铬的方法，其特征在于：阳极为不溶性石墨或铂或铂合金等。
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