[发明专利]一种掩膜版雾化控制方法及装置

权利要求书

1.一种掩膜版雾化控制方法，其特征在于，至少包括以下步骤：

1)从待扫描测试的掩膜版中选择出在预设时间内使用次数大于或等于预设次数的第一数量掩膜版；

2)依据公式R＝r₁*r₂*r₃*r₄*r₅计算出所述第一数量掩膜版中各掩膜版的雾化风险值R，其中，r₁为掩膜版的曝光总剂量风险值，r₂为掩膜版的使用年限风险值，r₃为掩膜版的清洗次数风险值，r₄为掩膜版的存储方式风险值，r₅为掩膜版的制程线宽风险值；

3)依据雾化风险值从高到低依次对全部或部分掩膜版进行扫描测试，并根据扫描测试的结果确定实际被雾化的掩膜版；

4)对实际被雾化的掩膜版进行修复。

2.根据权利要求1所述的掩膜版雾化控制方法，其特征在于：步骤1)中所述的预设次数为5～20次中的任意一种。

3.根据权利要求1所述的掩膜版雾化控制方法，其特征在于：所述掩膜版的曝光总剂量风险值由r₁＝k₁x+A，0<x≤500或r₁＝k₂ln(x)-B，x>500确定，其中，k₁的范围为0.0004～0.0008，A的范围为0.15～0.25，k₂的范围为0.5～0.6，B的范围为3～3.5，x为掩膜版的曝光次数。

4.根据权利要求1所述的掩膜版雾化控制方法，其特征在于：所述掩膜版的使用年限风险值由r₂＝k₃y²+k₄y+C，0<y≤4或r₂＝D，y>4确定，其中，k₃的范围为0.1～0.18，k₄的范围为0.04～0.08，C的范围为0.3～0.5，D的范围为2.5～3，y为掩膜版的使用年限。

5.根据权利要求1所述的掩膜版雾化控制方法，其特征在于：所述掩膜版的清洗次数风险值由r₃＝k₅z²+k₆z+E，0<z≤3或r₃＝F，z>3确定，其中，k₅的范围为0.25～0.3，k₆的范围为0.7～1，E的范围为0.9～1，F的范围为5～7，z为掩膜版的清洗次数。

6.根据权利要求1所述的掩膜版雾化控制方法，其特征在于：所述掩膜版的存储方式风险值为：当存储方式为惰性气体保护存储时，r₄的范围为0.3～0.5；当存储方式为常规存储时，r₄的范围为0.8～1.2。

7.根据权利要求1所述的掩膜版雾化控制方法，其特征在于：所述掩膜版的制程线宽风险值为：当所述掩膜版的线宽为356nm时，r₅的范围为0.6～1；当所述掩膜版的线宽为248nm时，r₅的范围为1～1.4，当所述掩膜版的线宽为193nm时，r₅的范围为4～6。

8.根据权利要求1所述的掩膜版雾化控制方法，其特征在于：步骤3)中，当雾化风险值R<1时，则判断该掩膜版为低雾化风险，可继续正常使用；当1≤R<5时，则判断该掩膜版为有雾化风险，应尽快安排雾化扫描测试；当R>5时，则判断该掩膜版为高雾化风险，应立刻停止使用并立即进行雾化扫描测试。