[发明专利]一种动静混合镀膜系统及利用其进行动静混合镀膜的方法

权利要求书

1.一种动静混合镀膜系统，其特征在于包括：

静态镀膜系统：静态镀膜系统包括静态镀膜腔室、设置在所述静态镀膜腔室内的用于对基板表面沉积镀膜的第一镀膜组件；以及设置在所述静态镀膜腔室内的可用于对基板进行往复扫描的第一传输组件；所述第一镀膜组件包括两个或两个以上平行排列的靶材，所述往复扫描的距离是零或者是任何小于相邻靶材间距的距离； 

以及动态镀膜系统，包括动态镀膜腔室、设置在所述动态镀膜腔室内的用于对静态镀膜后的基板表面进行镀膜的第二镀膜组件；以及设置在所述动态镀膜腔室内的用于对静态镀膜后的基板进行连续传输的第二传输组件。

2.根据权利要求1所述的一种动静混合镀膜系统，其特征在于还包括真空切换系统和设置在所述静态镀膜系统和动态镀膜系统之间的第一缓冲系统，所述真空切换系统包括依次设置且相互连接的低真空切换室和高真空切换室。

3.根据权利要求1或2所述的一种动静混合镀膜系统，其特征在于：所述静态镀膜腔室和动态镀膜腔室内分别包括用于对基板表面沉积镀膜的靶材和用于对所述基板加热的加热器；所述静态镀膜腔室和动态镀膜腔室内均设置有用以满足真空要求的冷泵或分子泵；所述低真空切换室上设置有用于使所述基板进出的包括进口轨道和进口以及包括出口轨道和出口。

4.根据权利要求3所述的一种动静混合镀膜系统，其特征在于：所述第一传输组件或第二传输组件包括用于支撑基板的基板架载体，所述基板架载体边缘底部在不锈钢辊或传送带上移动，基板架载体顶部通过摩擦导向轮或无摩擦的磁导向导轨间移动。

5.根据权利要求2所述的一种动静混合镀膜系统，其特征在于：所述第一缓冲系统包括缓冲室、设置在所述缓冲室外部且与缓冲室相连通的分子泵或冷泵；所述静态镀膜系统内设置有通过传动装置对基板实现平移的平移装置。

6.根据权利要求2所述的一种动静混合镀膜系统，其特征在于：所述动态镀膜系统一端设置有第二缓冲系统，所述第二缓冲系统包括缓冲室、设置在所述外部且与缓冲室相连通的分子泵以及通过传动装置对基板实现平移的平移装置。

7.一种利用权利要求1-6任一项动静混合镀膜系统进行动静混合镀膜的方法，其特征在于：

1）将基板放置在基板架载体上，以1-30m/min的第一传输速度进入所述静态镀膜室，使基板的待镀膜面朝向静态镀膜室中的第一镀膜组件，使基板在静态镀膜室中进行纯静态镀膜或往复扫描镀膜；

2) 使经过静态镀膜的基板以1-30m/min的第一传输速度匀速进入第一缓冲室，然后以0.5-10m/min的第二传输速度进入动态镀膜室中进行连续动态传输镀膜；

3）使经过动态镀膜的基板以0.5-10m/min的第二传输速度进入第二缓冲室，然后在所述第二缓冲室内平移，反向依次进入所述动态镀膜室和静态镀膜室中，平移以后不镀膜。

8.一种利用权利要求1-6任一项动静混合镀膜系统进行动静混合镀膜方法，其特征在于：

A．将基板放置在基板架载体上，以1-30m/min的第一传输速度依次进入所述动态镀膜室、第一缓冲室和静态镀膜室，然后在所述静态镀膜室内垂直平移，垂直平移以前不镀膜； 

B. 垂直平移以后在所述静态镀膜室中使基板的待镀膜面朝向静态镀膜室中的第一镀膜组件，使基板在静态镀膜室中进行纯静态镀膜或往复扫描镀膜；

C. 使经过静态镀膜的基板以1-30m/min的第二传输速度匀速进入第一缓冲室，然后以0.5-10m/min的第二传输速度进入动态镀膜系统中进行连续传输镀膜。

9.根据权利要求7所述的动静混合镀膜的方法，其特征在于：基板在经过所述静态镀膜室前以1-30m/min的第一传输速度依次经过低真空切换室和高真空切换室；基板经过静态和动态镀膜后在第二缓冲室中垂直平移后以0.5-10m/min的第二传输速度依次进入所述动态镀膜室、第一缓冲室和静态镀膜室后再以1-30m/min的第一传输速度依次通过高真空切换室和低真空切换室，并从低真空切换室出口送出，整体镀膜完成。