[发明专利]一种鉴定希瓦氏菌的表面增强拉曼散射方法

权利要求书

1.一种鉴定希瓦氏菌的表面增强拉曼散射方法，其特征在于，该方法是利用希瓦氏菌的金属还原能力将金属离子还原成纳米金属，并将其作为表面增强拉曼散射的活性基底物质，采用拉曼光谱对希瓦氏性菌进行检测，鉴定希瓦氏菌。

2.根据权利要求1所述的鉴定希瓦氏菌的表面增强拉曼散射方法，其特征在于，所述的金属离子为金离子或者银离子或者铜离子或者铂离子或者铟离子或者镍离子或者钯离子或者钌离子或者铑离子或者铁离子或者钴离子的其中之一。

3.根据权利要求1所述的鉴定希瓦氏菌的表面增强拉曼散射方法，其特征在于，所述的纳米金属为纳米金或者纳米银或者纳米铜或者纳米铂或者纳米铟或者纳米镍或者纳米钯或者纳米钌或者纳米铑或者纳米铁或者纳米钴的其中之一。

4.根据权利要求1所述的鉴定希瓦氏菌的表面增强拉曼散射方法，其特征在于，采用拉曼光谱对希瓦氏菌进行检测的方法是将希瓦氏菌的自身金属还原能力合成纳米金属滴在硅片上，自然挥干，进行拉曼光谱测试。

5.根据权利要求1所述的鉴定希瓦氏菌的表面增强拉曼散射方法，其特征在于，所述的拉曼光谱的检测条件为：激光波长：632.8nm，激光功率为0.24mW，采集时间为10-60s；检测范围是400～2000cm^-1；光斑直径100μm，得到待测试样的SERS谱图。

6.根据权利要求1所述的鉴定希瓦氏菌的表面增强拉曼散射方法，其特征在于，所述的希瓦氏菌是具有金属还原活性的希瓦氏奥奈达菌MR-1或者脱色希瓦氏菌S12或者腐败希瓦菌200。

7.根据权利要求1所述的鉴定希瓦氏菌的表面增强拉曼散射方法，其特征在于，所述的希瓦氏菌的自身金属还原能力还原纳米金属的方法，依次包括下述步骤：

1)称取体积比1:10的活化菌株标准样品和盐，加入到的LB液体培养基中定溶，在25-35℃恒温摇床中培养10～40小时；

2)再在3-5℃条件下离心5-10min，收集底部沉淀，并用双蒸水洗涤后收集的沉淀；

3)将步骤2)得到的沉淀与双蒸水混合均匀，制成待测样品。

8.根据权利要求7所述的鉴定希瓦氏菌的表面增强拉曼散射方法，其特征在于，所述的活化菌株标准样品为OD₆₀₀＝1.0的活化菌株标准样品。

9.根据权利要求7所述的鉴定希瓦氏菌的表面增强拉曼散射方法，其特征在于，步骤2)所述的摇床转速160rpm，步骤3)所述的离心转速为3000rpm。

10.根据权利要求7所述的鉴定希瓦氏菌的表面增强拉曼散射方法，其特征在于，所述的盐溶液的浓度为0.3～10.0mM。