[发明专利]一种耐光型超分子插层结构颜料及其制备方法有效
| 申请号： | 201410183476.3 | 申请日： | 2014-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN103965654A | 公开（公告）日： | 2014-08-06 |
| 发明（设计）人： | 李殿卿;钱磊磊;唐平贵;冯拥军 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | C09B69/02 | 分类号： | C09B69/02;C09B67/20 |
| 代理公司： | 北京金富邦专利事务所有限责任公司 11014 | 代理人： | 揭玉斌;蔡志勇 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 耐光型超 分子 结构 颜料 及其 制备 方法 | ||
所属领域
本发明涉及一种耐光型超分子插层结构颜料及其制备方法。
背景技术
有机颜料具有颜色鲜艳、色调明亮、品种多、色种齐全、易均匀分散于应用介质等优点，在日常生活和工业领域中得到了广泛应用。但大部分有机颜料存在耐热性和耐光性欠佳的缺点，限制了其应用范围。
水滑石(Layered Double Hydroxides，简写为LDHs)是由带正电荷的金属氢氧化物层板和带负电荷的层间阴离子以弱化学键相连接组成的化合物，其主体层板金属元素的组成、主体层板电荷密度和分布、层间客体阴离子种类和数量、主客体相互作用等都具有可调变的特性，因此可以利用该特性在水滑石层间插入功能阴离子，从而制备得到具有特殊性质的功能材料。人们利用水滑石可插层组装的特性，将染料阴离子插层至水滑石层间制备了多种插层结构颜料。
文献Chanchal Chakraborty,Kausik Dana and Sudip Malik，the Journal of Physical Chemistry C,2010，115(5)，1996-2004采用离子交换法将N,N’-Bis(4-benzosulfonicacid)-perylene-3,4,9,10-tetracarboxylbisimide(PRSA)阴离子分别插层到ZnAl-LDH、CoAl-LDH、NiAl-LDH层间，研究表明插层后PRSA阴离子的耐热性和耐光性都在一定程度上获得了提高。
文献Shengchang Guo,Dianqing Li,Weifeng Zhang,Min Pu,David G.Evans,Xue Duan,Journal of Solid State Chemistry,2004,177(12),4597-4604以MgAl-NO3-LDHs为前驱体，采用离子交换法将酸性红48:2染料阴离子插入到MgAl-LDHs层间，通过热老化和光老化测试考察了超分子插层结构颜料的耐热性和耐光性，研究表明插层后染料阴离子的耐热性和耐光性均得到了提高。
文献Johann Bauer,Peter Behrens,Markus Speckbacher,Heinz Langhals,Advanced Functional Materials,2003,13,241-248采用共沉淀法将N,N′-di(phenyl-3,5-disulfonic acid)perylene-3,4,9,10-tetracarboxydiimide(PBITS)阴离子插入到MgAl-LDH、ZnAl-LDH、CaAl-LDH层间,研究表明PBITS阴离子的耐光性得到了改善。
虽然上述文献制备了多种超分子插层结构颜料，并且其耐光性均得到了提高，然而该类颜料的耐光性仍然存在明显不足，在太阳光照射下依然会快速发生光氧化降解，导致使用一段时间后发生褪色，使其应用受到了限制。
发明内容
本发明的目的在于提供一种耐光型超分子插层结构颜料及其制备方法。将染料阴离子与光稳定剂阴离子共同插入水滑石层间，利用光稳定剂阴离子的紫外吸收、能量转移、激发态猝灭等作用来提高层间染料阴离子的耐光性，并通过调节光稳定剂与染料阴离子间的相互作用，改变染料阴离子的可见光吸收光谱，对该类颜料的颜色进行调控，从而制备得到一类颜色可调、耐光性优异的超分子插层结构颜料。
本发明制备的耐光型超分子插层结构颜料的化学通式为：
[M2+1-xM3+x(OH)2](An-)y(Bm-)z·cH2O
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